高真空多靶磁控溅射镀膜机招标-分析测试百科网

高真空多靶磁控溅射镀膜机

中标北京

发布时间：2018-01-16

中标内容

竞价结果详细
(CB102992018000004)----江苏大学
申购单类型
竞价类
申购主题
高真空多靶磁控溅射镀膜机
发布中标时间：
2018-01-16 14:52
经费科目
科研经费或基金（纵向）
使用币种
人民币
是否含税
是
申购备注
中标供应商
设备名称
品牌
型号
规格配置
是否标配
申购数量
中标单价
售后服务
报价说明
中标理由
沈阳美济真空科技有限公司
高真空多靶磁控溅射镀膜机
北京微纳
VJC-300
1、基片尺寸：≥110×110mm，基片加挡板。
2、基片台：基片台旋转，转速0-25rpm连续可调，光控定位；
衬底加热：采用真空专用加热器，室温～300℃可调可控；
反溅清洗；采用射频电源对基片表面进行“清洗/活化”；
3、基片架转速0～25转/分，可控可调。
4、基片架可加热、可旋转、可升降。
5、靶面到基片距离60～90mm可调。
6、Ф3英寸圆形平面磁控溅射永磁靶；可镀铁磁材料的磁控溅射靶1支，可镀普通靶材的磁控溅射靶1支；靶材尺寸Ф3英寸。
7、镀膜室极限真空：≤5×10-5Pa，抽至 10-4Pa≤20min；。
8、速率和膜厚监控：石英晶振膜厚仪，在线监�... 查看详情

全部分类

高真空多靶磁控溅射镀膜机

中标内容

最新招标

最新中标