复合光学镀膜系统项目招标预告招标-分析测试百科网

招标内容

( 复合光学镀膜系统 )需求公示项目名称复合光学镀膜系统是否预选项目否采购人名称南方科技大学采购方式公开招标财政预算限额（元） 3,500,000.00 项目背景南方科技大学在2015年获得深圳市重点学科布局项目中高温光热光伏协同发电中核心光学调控技术研究，项目研究所必须的光学薄膜制备需要反应等离子体沉积光学镀膜系统一套，用于实现多重光学薄膜成分调制和高速沉积，可以满足项目所需高达几十层、厚度数十微米的光谱分光薄膜需求。投标人资质要求 1）具有独立法人资格（提供合法有效的营业执照原件扫描件，原件备查）； 2）本项目不接受联合体投标，不允许分包，不接受投标人选用进口产品参与投标； 3）参与政府采购项目投标的供应商近三年内无行贿犯罪记录（由采购中心定期向市人民检察院申请对政府采购供应商库中注册有效的供应商进行集中查询，投标文件中无需提供证明材料）； 4）（1.只能将国家或地方法律法规规定的资质要求作为投标人资质要求； 2.不得提出投标人须提交任何形式的产品授权书或代理证的要求； 3.不得违反《深圳经济特区政府采购条例实施细则》第三十四条的规定。）货物清单序号采购计划编号货物名称数量单位备注财政预算限额(元) 1 PLAN-2016-136001-000004 复合光学镀膜系统 1.0 批 3500000.0 具体技术要求序号货物名称招标技术要求 1 复合光学镀膜系统 1.1真空腔室和排气 ★1.1.1排气性能粗抽真空：从大气压到10Pa，10分钟以内极限真空：低于7.0E-5Pa 恢复真空：15分钟之内达到1.3E-3Pa 漏气速率：低于9.0E-5Pa m3/秒测试条件如下： a）在室温环境，真空室清洁干燥、经过高温烘烤过、无样品。 b) 测试位置为真空室侧面电离真空计 c) 测试前系统要经过24小时以上排气过程处理，且真空室暴露大气不超过5分钟。 d) 低温冷凝器处于工作状态。 e）慢粗真空排气时间为1分钟。 1.1.2真空室真空室外形：前开门箱式结构。真空室尺寸：直径900毫米，高度1345毫米真空室材料：不锈钢SUS304。真空室冷却方式：不锈钢管水冷式。 1.1.3接口 a）观察窗接口观察基片窗口用（配有紫黑色防强光玻璃） 1 观察蒸发源窗口用（配有紫黑色防强光玻璃） 2 反射式光学监控系统用(安装在真空室顶部) 1 b）源接口离子源用 1 离子源中和器用 1 电子枪坩埚用 2 KF40法兰(DGV) 1 c) 挡板接口电子枪挡板用（安装在真空室底部） 2 离子枪挡板用（安装在真空室底部） 1 膜厚校正板用（安装在真空室两边） 2 d) 规管接口 PSG500用（配管真空确认） 1 PEG100用（真空室的高真空确认） 1 BPG402-SD用（真空室的粗真空确认） 1 e) 备用接口 70ICF 1 KF40 1 KF25 1 1.2排气系的构成 a) 低真空排气系统油旋转机械泵:（ULVAC VS1501） 1 罗茨机械泵:（ULVAC PRC-006A） 1 油雾吸附塔 1 b) 高真空排气系统油扩散泵: 口径22英寸 (排气速度13,000 l/s) 1 油扩散泵用水冷冷阱：22 英寸扩散泵用(人字形冷阱) 1 c) 低温系统低温冷凝器：PFC-672HC 1 低温冷凝管： 1 d) 阀门高真空阀门 1 辅助阀门 1 低真空阀门 1 慢低真空阀门 1 充气阀门 1 慢充气阀门 1 除霜阀门 1 1.3 真空加热系统 1.3.1基板加热特性：最大设定温度: 摄氏350℃ 加热40分钟以内，能到达摄氏300℃ 温度均匀性: 摄氏300℃ n;10℃(加热40分钟后) 在测试工件盘上均匀选用16个测试点 1.3.2基板加热机构 PID控制镍铬电热丝输出功率：約13.5kW 工件盘加热密封法兰（带有水冷进出口接头） 2 K型热电偶 1 温度指示调节计 1 1.4真空测定和压力控制系统 1.4.1复合真空计真空计: VGC403（inficon制） 1 B-A/Pirani复合真空测定子：BPG402-SD 1 注：由BPG402-SD内部Pirani进行控制 Penning 真空测定子：PEG100 1 Pirani真空测定子：PSG500 1 1.4.2自动压力控制系统（APC） 1 气体导入阀门 1 气体流量计 1 工作压力范围: 6.6E-2 Pa～3.0 E-3 Pa 1.5 基板旋转系统 1.5.1基板旋转机构（光学监控和水晶控制一体式） 1 中心驱动旋转速度调整范围: 10～30rpm 基板盘测试盘 1 材料：不锈钢尺寸：球面形工件盘直径790毫米开孔：由客户指定 1.5.2 真空室内其他用品 1) 膜厚校正挡板机构自动升降膜厚校正挡板机构(真空室二侧) 各1 2) 不锈钢防污板(安装和拆卸方便) 1 1.6蒸发源 1.6.1 电子枪/电源 ★a) 构成电子枪：JEBG-102UHO 2 (10kW，180 偏转，灯丝 0.8mm中空型) 2 电源：JST-10F 1 外部控制器: ST-EXTSIG 2 双电子枪同时使用控制器: ST-203 1 自动灭弧恢复系统: ST-AS10F 1 接线柱: HV 2, LV 1 2 ★b)主要性能电压 -4～-10kV(连续可变) 电流 0～1.0A(-10kV时，连续可变) ★1.6.2 水冷环形式铜坩埚台 1 尺寸： 302 228 H15mm 驱动方式：指定速度转动, 转速范围 5 ～120 min/转控制方式：旋转模式与FIX模式 ★1.6.3 水冷15点式铜坩埚台 1 坩埚尺寸：外径 40 H17mm 15 控制方式：定位编码器 1.6.4 电子枪用挡板 2 尺寸：约 150mm 1.6.5 热阻蒸蒸发源 1点热阻蒸挡板机构 1 1.7 离子源 ★1.7.1射频离子源： 1 栅网尺寸：10cm 最大射频功率：600W（13.56MHz）束電圧：100V～1500V 最大束電流：500mA 离子流密度分布： n;10%以内加速电压：100V～1000V 标准导入气体量：氧气30sccm或氩气15sccm ★1.7.2 射频中和器 1 最大射频功率：150W（13.56MHz）最大中和電流：1500mA 标准导入气体量：氩气8sccm 1.7.3 电源控制器 1 直流发生器 1 中和器直流发生器 1 1.7.4 射频电源射频电源 1 射频匹配器 1 中和器射频电源 1 中和器射频匹配器 1 1.7.5 三路气体导入系统 1 流量控制器 1 氧体导入机构 (离子枪用，最大流量100sccm) 1 氩体导入机构 (离子枪用，最大流量50sccm) 1 氩体导入机构 (中和器用，最大流量20sccm) 1 1.7.6 离子枪用挡板 1 尺寸：约 220mm 1.8光学膜厚监控 ★1.8.1 反射式膜厚计 1 a）性能波長范围：350nm～1100nm 波長精度：波长分解能：标准6.5nm n;1.0nm，546.1nm处波长再现性： n;0.25 nm 安定性：通信機能：GP-IB方式 b) 构成反射式光纤系统 (HOM2-F) 1 投光器 (HOM2-L) 1 投光器电源 (HOM2-P) 1 分光仪 (HOM2-N1-VIS350) 1 数据处理器（HOM2-D1） 1 分光测定程序（SMP） 1 1.8.2 60点监控片旋转机构 1 1.8.3 监控片加熱控制机构 1 PID控制镍铬电热丝输出功率：約0.24kW 最高加热温度：300�... 查看详情

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