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复合光学镀膜系统项目招标预告
招标内容
项目名称
复合光学镀膜系统
是否预选项目
否
采购人名称
南方科技大学
采购方式
公开招标
财政预算限额(元)
3,500,000.00
项目背景
南方科技大学在2015年获得深圳市重点学科布局项目 中高温光热光伏协同发电中核心光学调控技术研究 ,项目研究所必须的光学薄膜制备需要反应等离子体沉积光学镀膜系统一套,用于实现多重光学薄膜成分调制和高速沉积,可以满足项目所需高达几十层、厚度数十微米的光谱分光薄膜需求。
投标人资质要求
1)具有独立法人资格(提供合法有效的营业执照原件扫描件,原件备查);
2)本项目不接受联合体投标,不允许分包,不接受投标人选用进口产品参与投标;
3)参与政府采购项目投标的供应商近三年内无行贿犯罪记录(由采购中心定期向市人民检察院申请对政府采购供应商库中注册有效的供应商进行集中查询,投标文件中无需提供证明材料);
4)(1.只能将国家或地方法律法规规定的资质要求作为投标人资质要求;
2.不得提出投标人须提交任何形式的产品授权书或代理证的要求;
3.不得违反《深圳经济特区政府采购条例实施细则》第三十四条的规定。)
货物清单
序号
采购计划编号
货物名称
数量
单位
备注
财政预算限额(元)
1
PLAN-2016-136001-000004
复合光学镀膜系统
1.0
批
3500000.0
具体技术要求
序号
货物名称
招标技术要求
1
复合光学镀膜系统
1.1真空腔室
★排气性能
粗抽真空:从大气压到10Pa,10分钟以内
极限真空:低于7.0E-5Pa
恢复真空:15分钟之内达到1.3E-3Pa
漏气速率:低于9.0E-5Pa?m3/秒
测试条件如下:
在室温环境,真空室清洁干燥、经过高温烘烤过、无样品。
b) 测试位置为真空室侧面电离真空计
c) 测试前系统要经过24小时以上排气过程处理,且真空室暴露大气不超过5分钟。
d) 低温冷凝器处于工作状态。
e)慢粗真空排气时间为1分钟。
真空室
真空室外形:前开门箱式结构。
真空室尺寸:直径900毫米,高度1345毫米
真空室材料:不锈钢SUS304。
真空室冷却方式:不锈钢管水冷式。
主要接口
观察基片窗口用(配有紫黑色防强光玻璃) 1
观察蒸发源窗口用(配有紫黑色防强光玻璃) 2
反射式光学监控系统用(安装在真空室顶部) 1
离子源用 1
离子源中和器用 1
电子枪坩埚用 2
KF40法兰(DGV) 1
b) 挡板接口
电子枪挡板用(安装在真空室底部) 2
离子枪挡板用(安装在真空室底部) 1
膜厚校正板用(安装在真空室两边) 2
c) 规管接口
PSG500用(配管真空确认) 1
PEG100用(真空室的高真空确认) 1
BPG402-SD用(真空室的粗真空确认) 1
d) 备用接口
70ICF 1
KF40 1
KF25 1
1.2排气系的构成
a) 低真空排气系统
油旋转机械泵:(ULVAC VS1501) 1
罗茨机械泵:(ULVAC PRC-006A) 1
油雾吸附塔 : 1
b) 高真空排气系统
油扩散泵: 口径22英寸 (排气速度13,000 l/s) 1
油扩散泵用水冷冷阱:22 英寸扩散泵用(人字形冷阱) 1
c) 低温系统
低温冷凝器 :PFC-672HC 1
低温冷凝管: 1
d) 阀门
高真空阀门 1
辅助阀门 1
低真空阀门 1
慢低真空阀门 1
充气阀门 1
慢充气阀门 1
除霜阀门 1
1.3 真空加热系统
★基板加熱特性
最大设定温度: 摄氏350℃
加热40分钟以内,能到达摄氏300℃
温度均匀性: 摄氏300℃ n;10℃(加热40分钟后)
在测试工件盘上均匀选用16个测试点
基板加熱机构
PID控制
镍铬电热丝
输出功率:約13.5kW
工件盘加热密封法兰 (带有水冷进出口接头) 2
K型热电偶 1
温度指示调节计 1
1.4真空测定和压力控制系统
复合真空计
真空计: VGC403 1
B-A/Pirani复合真空测定子:BPG402-SD 1
注)由BPG402-SD内部Pirani进行控制
Penning 真空测定子:PEG100 1
Pirani真空测定子:PSG500 1
自动压力控制系统(APC) 1
气体导入阀门 1
气体流量计 1
工作压力范围: 6.6E-2 Pa~3.0 E-3 Pa
1.5 基板旋转系统
基板旋转机构 (光学监控和水晶控制一体式) 1
中心驱动
旋转速度调整范围: 10~30rpm
基板盘
测试盘 1
材料:不锈钢
尺寸:球面形工件盘直径790毫米
开孔:由客户指定
2.5 真空室内其他用品
1) 膜厚校正挡板机构
自动升降膜厚校正挡板机构(真空室二侧) 各1
2) 不锈钢防污板(安装和拆卸方便) 1
1.6蒸发源
1) 电子枪/电源
a) 构成 电子枪:JEBG-102UHO 2 (10kW,180 偏转,灯丝 0.8mm中空型)
电源:JST-10F 1
外部控制器: ST-EXTSIG 2
双电子枪同时使用控制器: ST-203 1
自动灭弧恢复系统: ST-AS10F 1
接线柱: HV 2, LV 1 2
b) ★主要性能
电压 -4~-10kV(连续可变)
电流 0~1.0A(-10kV时,连续可变)
2) 水冷环形式铜坩埚台 1
尺寸: 302 228 H15mm
駆動方式:指定速度转动, 转速范围 5 ~120 min/转
控制方式:旋转模式与FIX模式
3) 水冷15点式铜坩埚台 1
坩埚尺寸:外径 40 H17mm 15
控制方式:定位编码器
4) 电子枪用挡板 2
尺寸:约 150mm
5) 热阻蒸蒸发源 1点
热阻蒸挡板机构 1
1.7 离子源
★射频离子源: 1
栅网尺寸:10cm
最大射频功率:600W(13.56MHz)
束電圧:100V~1500V
最大束電流:500mA
离子流密度分布: n;10%以内
加速电压:100V~1000V
标准导入气体量:氧气30sccm或氩气15sccm
★射频中和器 1
最大射频功率:150W(13.56MHz)
最大中和電流:1500mA
标准导入气体量:氩气8sccm
电源
控制器 1
直流发生器 1
中和器直流发生器 1
4) 射频电源
射频电源 1
射频匹配器 1
中和器射频电源 1
中和器射频匹配器 1
5)★3路气体导入系统 1
流量控制器 1
氧体导入机构 (离子枪用,最大流量100sccm) 1
氩体导入机构 (离子枪用,最大流量50sccm) 1
氩体导入机构 (中和器用,最大流量20sccm) 1
离子枪用挡板 1
尺寸:约 220mm
1.8光学膜厚监控
反射式膜厚计 1
★性能
波長范围:350nm~1100nm
波長精度:
波长分解... 查看详情