等离子刻蚀

品牌: GATAN名称型号:精密刻蚀镀膜系统PECS II 685制造商: 美国GATAN公司经销商:欧波同有限公司免费咨询电话:800-8900-558售后服务电话:800-8900-558产品综合介绍:产品功能介绍  Gatan公司的精密刻蚀镀膜仪 (PECS™) II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀......

等离子刻蚀ICP

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Trion 半导体专用检测仪器设备

型号: Minilock-Phantom III ICP

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Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理功能(4x3”; 3x4”; 7x2”)。系统有多达七种工艺气体可以用于刻蚀各种薄膜,如氧化硅、氮化硅、多晶硅、铝、砷化镓、铬、铜、磷化铟和钛。该反应室还可以用于去除......

仪器简介:NexION™ 300,为您提供ICP-MS前所未有的稳定性,灵活性与卓越性能,是ICP-MS发展史上第一次真正意义的革命性突破。 NexION™ 300 是ICP-MS历史上第一次在一台仪器中同时提 供简单、方便的碰撞池和具有异常出色检出能力的真正反应池的创新仪器。 拥有专利的通用池技术(UCT, Universal Cell Technol......

等离子清洗机刻蚀KT-S2DQX应用领域:光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质,去除金属材料表面的氧化物。清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。高分子材料表面的修饰。封装......

点击查看下载ICP-MSAgilent 电感耦合等离子体质谱仪安捷伦 Agilent 电感耦合等离子体质谱仪相关资料,进一步了解产品。 产品特性:● 优异的高盐基质耐受能力 — Agilent 7900 ICP-MS 的稳定等离子体和可选的超耐高盐进样系统 (UHMI) 可帮助您对高达 25% 总溶解固体 (TDS) 含量的样品进行常规测量,其......

点击查看下载安捷伦ICP-MSAgilent 电感耦合等离子体质谱仪 Agilent 电感耦合等离子体质谱仪相关资料,进一步了解产品。 AGILENT 7900 ICP-MS 开启了四极杆 ICP-MS 的新纪元世界上畅销的四极杆 ICP-MS 真的能更强 10 倍吗?答案是肯定的。新型 Agilent 7900 将再次重新定义 ICP-MS:高盐基质耐......

等离子刻蚀与沉积设备

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深光达 等离子体刻蚀设备

型号:等离子刻蚀与沉积设备

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等离子刻蚀与沉积设备......

RIE等离子刻蚀机SI 591

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SENTECH 等离子体刻蚀设备

型号:SI 591 compact/SI 591 Cluster

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工艺灵活性RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工艺占地面积小且模块化程度高SI 591 可配置为单个反应腔或作为片盒到片盒装载的多腔设备。SENTECH控制软件我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面,参数窗口,工艺窗口,数据记录和用户管理。预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件,使得SI 591 具有优异的......

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 10 IBE, 适用于实验室研究 8寸及以下单片的材料刻蚀. 离子束刻蚀机 10 IBE 可选配美国 KRi 考夫曼离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).离子束刻蚀机 10 IBE 特性基板尺寸:......

因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 10 IBE, 适用于实验室研究 8寸及以下单片的材料刻蚀. 离子束刻蚀机 10 IBE 可选配美国 KRi 考夫曼离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).离子束刻蚀机 10 IBE 特性基板尺寸:......

厂商新闻
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