等离子刻蚀机

德国SENTECH等离子刻蚀机 SI 591

SENTECH 半导体专用检测仪器设备

型号： SI 591

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SENTECH RIE SI591 平板电容式反应离子刻蚀机 SI 591特别适用于采用氟基和氯基气体的工艺，可以通过预真空室和电脑控制的等离子工艺系统实现。SI 591的特点是占地空间小，高度灵活性，例如，SI 591可作为单一反应腔系统集成在多腔系统中。  工艺灵活性RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工......

铌酸锂离子束刻蚀机

NS 电子束刻蚀设备

型号：20-IBE

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图片仅供参考, 价格货期电议, 一切已实际成交合同为准上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 20 IBE-C, 适用于中等规模的实验室研究, 满足 3寸, 4寸, 6寸, 8寸多片的材料刻蚀. 采用自研公转自转传输机构 ”Dry Chuck Planet ”, 使得样品可以得到比较均匀平滑的表面. 刻蚀均匀性 ≤±5%. 离子束刻蚀机 20 IBE-C ......

日本NS离子刻蚀机

NS 电子束刻蚀设备

型号：20IBE

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图片仅供参考, 价格货期电议, 一切已实际成交合同为准伯东 Hakuto / NS 共同研发的离子束刻蚀机 IBE , 日本原装设计制造, 提供 4英寸, 6英寸, 8英寸干法, 纳米级别材料的表面刻蚀, 刻蚀均匀性 ≤±5%. 由于是不伴随化学反应的物理蚀刻工艺, IBE 刻蚀机几乎满足所有材料的刻蚀. 例如磁性材料, 黄金 Au, 铂 Pt, 合金等金属......

等离子清洗机刻蚀

郑科探 洗瓶机、清洗机

型号：KT-S2DQX

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等离子清洗机刻蚀KT-S2DQX应用领域：光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的超清洗。清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。高分子材料表面的修饰。封装......

等离子清洗机

贝拓科学 等离子清洗机

型号：VPC30A/VPC100A

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▶仪器介绍 等离子体是物质的一种状态，也叫做物质的第四态，并不属于常见的固、液、气三态。对气体施加足够的 能量使之离化便成为等离子状态。VPC100 系列等离子清洗机就是利用等离子体的活性组分的性质来处理塑胶工 件，金属基工件，陶瓷、玻璃等工件表面，从而实现清洁、改性等目的。 ▶工作原理 等离子清洗......

RIE等离子刻蚀机SI 591

SENTECH 等离子体刻蚀设备

型号：SI 591 compact/SI 591 Cluster

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工艺灵活性RIE蚀刻机SI 591 特别适用于氯基和氟基等离子蚀刻工艺占地面积小且模块化程度高SI 591 可配置为单个反应腔或作为片盒到片盒装载的多腔设备。SENTECH控制软件我们的等离子蚀刻设备包括用功能强大的用户友好软件与模拟图形用户界面，参数窗口，工艺窗口，数据记录和用户管理。预真空室和计算机控制的等离子体刻蚀工艺条件，使得SI 591 具有优异的......

LAM RESEARCH 2300 Exelan Flex蚀刻机，介电质刻蚀，干法刻蚀机

泛林集团 反应离子刻蚀系统（RIE）

型号：2300 Exelan Fle

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LAM 2300 Exelan Flex蚀刻机基本介绍LAM 2300 Exelan Flex是泛林集团（Lam Research）推出的高性能等离子体干法蚀刻设备，专为半导体制造工艺设计。该设备结合高精度工艺控制与灵活性，适用于逻辑芯片、存储芯片（如3D NAND、DRAM）及 封装技术（如TSV）的复杂蚀刻需求。LAM 2300 Exelan Flex蚀......

等离子刻蚀机VP-RS8

善准科技 等离子体表面处理仪

型号：VP-RS8

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等离子刻蚀机VP-RS8真空腔体不锈钢材质，功率500W，射频频率13.56MHz，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行3分钟，腔体温度不高于45℃，不损伤样品，适用于金属刻蚀、晶圆去胶、芯片去胶、光刻胶干法去除、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。善......

IBE 刻蚀机

NS 电子束刻蚀设备

型号：10 IBE

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因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 10 IBE, 适用于实验室研究 8寸及以下单片的材料刻蚀. 离子束刻蚀机 10 IBE 可选配美国 KRi 考夫曼离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).离子束刻蚀机 10 IBE 特性基板尺寸:......

IBE刻蚀机

NS 电子束刻蚀设备

型号：10 IBE

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因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准上海伯东日本原装进口 NS 离子束刻蚀机 10 IBE, 适用于实验室研究 8寸及以下单片的材料刻蚀. 离子束刻蚀机 10 IBE 可选配美国 KRi 考夫曼离子源或终点检测(监测当前气体成分, 监控刻蚀制程).离子束刻蚀机 10 IBE 特性基板尺寸:......