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新闻动态
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 镀制气体传感器 WO3 薄膜TIME:2021-01-22
传感器制造商为了制备出具有高结晶度、大比表面积、排列规则的纳米结构WO3薄膜,经过对比选择,采用KRI考夫曼射频离子源RFICP380辅助磁控溅射沉积设备镀制W......[全文]
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