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仪器简介: 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术,基于测量线偏振光经过薄膜样品反射后偏振状态发生的改变,通过模型拟合后得到薄膜、界面和表面粗糙层的厚度以及光学性质等等,可测厚度范围为几埃至几十微米。此外,还可以测试材料的反射率及透过率。
技术参数:
* 光谱范围: 190-885 nm(可扩展至2100nm) * 微光斑可选50µm-100µm-1mm * 探测器:分别针对紫外,可见和近红外提供优化的PMT和IGA探测器 * 自动样品台尺寸:多种样品台可选 * 自动量角器:变角范围40° - 90°,全自动调整,小步长0.01° 主要特点: * 50KHz 高频PEM 相调制技术,测量光路中无运动部件 * 具备超薄膜所需的测量精度,超厚膜所需的高光谱分辨率 * 具有毫秒级超快动态采集模式,可用于在线实时监测 * 自动平台样品扫描成像、变温台、电化学反应池、液体池、密封池等多种附件 * 配置灵活
HORIBA UVISEL Plus研究级经典型椭偏仪,UVISEL
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表征玻璃基底上的ZrO2薄膜
椭圆偏振光谱仪的标准应用
使用椭圆偏振光谱仪表征铁电薄膜PbZr1-xTixO3&BA1-xSrxTiO3
使用MM-16椭圆偏振光谱仪表征AIN的光学特性
使用MM-16椭圆偏振光谱仪表征并五苯有机薄膜晶体管
椭圆偏振光谱仪测量化合物半导体:AlxGa1-xNGaN异质结构
使用相位调制型椭圆偏振光谱仪表征III-V族半导体
使用VUV椭圆偏振光谱仪和FTIR-ATR对纳米级厚度的高k介电材料进行研究
使用椭圆偏振光谱仪对有机半导体进行光学表征
使用椭圆偏振光谱仪表征用于可写光盘的GeSb膜
KS B 4074-1972(2011) 椭偏仪
JJF 1932-2021 椭偏仪校准规范
IEC/TR 63258:2021 纳米技术.评估纳米薄膜厚度的椭偏仪应用指南
DANSK DS/ISO 23131:2021 椭偏仪 原理
NF EN ISO 23131:2022 椭偏仪 - 原理
BS EN ISO 23131:2022 椭偏仪 原则
DIN EN ISO 23131:2023-01 椭偏仪 原理
IEC TR 63258:2021 纳米技术 用于评估纳米级薄膜厚度的椭圆偏光应用指南
IEC TR 63258:2021 纳米技术.评估纳米薄膜厚度的椭偏仪应用指南
DIN EN ISO 23131 E:2022-08 椭偏仪 原理(草案)
20/30400313 DC BS ISO 23131 椭偏仪 原则
DIN EN ISO 23131:2023 椭偏仪 原理 (ISO 23131:2021)
UNE-EN ISO 23131:2023 椭偏仪 原理 (ISO 23131:2021)
DIN 50989-1 E:2017-04 椭偏仪 第1部分:原理
DIN 50989-6:2023-03 椭偏仪 第6部分:有效材料模型
NS-EN ISO 23131:2022 椭圆偏振仪 原理 (ISO 23131:2021)
DIN 50989-2:2021-04 椭偏仪 第2部分:散装材料模型
DIN 50989-3:2022-04 椭偏仪 - 第 3 部分:透明单层模型
北京师范大学
吉林大学
大连理工大学
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