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在镀膜或刻蚀的过程中,实时监测样品膜的膜厚以及光学常数(n,k)变化。
技术参数:
·可实现快速、实时在线监测样品膜层变化
主要特点:
将激发和探测头引入生产设备,可实现:
· 动态模式:实时监测膜厚变化
· 光谱模式:监测薄膜的界面和组分
In-situ series 在线椭偏仪,In-situ series
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HORIBA UVISEL Plus研究级经典型椭偏仪
KS B 4074-1972(2011) 椭偏仪
JJF 1932-2021 椭偏仪校准规范
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NF EN ISO 23131:2022 椭偏仪 - 原理
DIN EN ISO 23131:2023-01 椭偏仪 原理
BS EN ISO 23131:2022 椭偏仪 原则
DANSK DS/ISO 23131:2021 椭偏仪 原理
IEC TR 63258:2021 纳米技术 用于评估纳米级薄膜厚度的椭圆偏光应用指南
IEC TR 63258:2021 纳米技术.评估纳米薄膜厚度的椭偏仪应用指南
DIN EN ISO 23131 E:2022-08 椭偏仪 原理(草案)
DIN EN ISO 23131:2023 椭偏仪 原理 (ISO 23131:2021)
20/30400313 DC BS ISO 23131 椭偏仪 原则
UNE-EN ISO 23131:2023 椭偏仪 原理 (ISO 23131:2021)
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PAS 1022-2004 检测材料及介电材料性质以及用椭偏仪测量薄膜层厚度的参考程序
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