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专为VUV 测量设计,整个系统处于真空状态,无氧气吸收。具备高度准确性;独一无二的超快测量速度;快速样品室抽真空能力,方便快速更换样品;氮气消耗量少。
产品特点
50KHz 高频PEM 相位调制技术
45 秒内完成充氮气
2 分钟内完成样品室抽真空
8 分钟内完成光谱全谱范围内测量
两种工作模式:氮气清洗结合抽
真空、连续氮气清洗
光谱范围:147nm~850nm;147nm~2100nm
重点应用领域
超薄膜
157nm 光刻新材料
有机材料、高分子材料
高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz
抗反射涂层
半导体和介电材料电子跃迁
MgF2、CaF2、LaF3
UVISEL 2 VUV 真空紫外椭偏仪,UVISEL 2 VUV 真空紫外椭偏仪
UVISEL 2 VUV 真空紫外椭偏仪信息由HORIBA科学仪器事业部为您提供,如您想了解更多关于UVISEL 2 VUV 真空紫外椭偏仪报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
HORIBA UVISEL Plus研究级经典型椭偏仪
产品名称:一键式全自动快速椭偏仪 产地:法国 型号:Auto SE01 仪器用途及应用范围Auto SE 是一种新型薄膜测量工具。仅需简单的几个按钮,几秒钟内即可自动完成样品测量和分析,并提供完整的薄膜特性分析报告,包括薄膜厚度、光学常数、表面粗糙度和薄膜的不均匀性、反射率或透过率。有机电子材料薄膜厚度、光学常数表征膜层各向异性分析
为提升椭偏用户的应用技能,4月25-26日我司将于上海复旦大学举办椭偏用户培训班。本次培训将以仪器硬件操作和基本建模为主,带领大家展开学习,欢迎各位老师参加!椭圆偏振光谱仪是一种高精度薄膜表征工具,用于测量光学常数(n,k)和厚度。并越来越多地应用于光学薄膜、半导体薄膜、介电薄膜、有机薄膜、LED显示、滤光片、纳米器件、包装等材料的测量和表征。本次培训中将着重介绍椭偏的日常使用,包括硬件操作和模型分析两大部分,帮助用户真正利用仪器获取材料光学常数。请自备笔
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