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在镀膜或刻蚀的过程中,实时监测样品膜的膜厚以及光学常数(n,k)变化。
技术参数:
·可实现快速、实时在线监测样品膜层变化
主要特点:
将激发和探测头引入生产设备,可实现:
· 动态模式:实时监测膜厚变化
· 光谱模式:监测薄膜的界面和组分
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