PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是一家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括最大的电子制造商,小型的创新型挑战......
PICOSUN®P-300BPICOSUN®P-300B ALD系统是专为生产MEMS设备(例如打印头,传感器和麦克风)以及各种3D物品(例如机械零件,玻璃或金属薄板,硬币,手表零件和珠宝,镜片,光学器件以及医疗设备和植入物。PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的专利热墙设计与完全分开的入口集成在一起,我......
Picosun独特的突破性ALD专业知识可追溯到ALD技术本身的诞生。于1974年在芬兰发明了ALD方法,并在工业上获得了专利。在高质量ALD系统设计方面拥有丰富的经验。高度敬业的Picosun人员拥有无与伦比的ALD经验,并且为ALD的许多专利做出了贡献。Picosun的热情在于创新。当您想与设备制造商共同创建定制的ALD解决方案,从而引领行业发展时,Pi......
Picosun适应性强其客户包括最大的电子制造商,小型的创新型挑战者以及全球领先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有独特的内置可扩展性,可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中,而不会出现技术差距。ALD主要应用:1.在集成电路上的应用:Fin-FET和HKMG工艺在Si衬底......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro(PICOSUN™ ALD R-200 S Pro)原子层沉积系统( ALD P-200) 名称:原子层沉积系统 产地:芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Ma......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版(PICOSUN™ ALD R-200 Advanced) 名称:原子层沉积系统 产地:芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®A......
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项,包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版(PICOSUN™ ALD R-200 Standard) 名称:原子层沉积系统 产地:芬兰 Picosun简介Picosun是一家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版(PICOSUN™ ALD R-200 Standard) 敏捷的设计实现了最高质量的ALD薄膜沉积以及系统的最终灵活性,可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全独立的入口和仪器,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术,即......
液相色谱仪ACQUITY Arc系统 Arc系统操作规程SOP针对不同使用环境,有着不同的操作与维护流程,点击查看操作维修手册。 本文以Arc -2998系统为例,介绍Arc系统硬件部分的标准操作规程及日常维护。如仪器开机顺序、arc系统准备、新建项目、系统精密度测试等内容。 只需一个切换,即可进行HPLC转到UHPLC的转换ACQUITY Arc系统采用了......