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PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括最大的电子制造商，小型的创新型挑战......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版（PICOSUN™ ALD R-200 Standard） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro（PICOSUN™ ALD R-200 S Pro）原子层沉积系统（ ALD P-200） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Ma......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版（PICOSUN™ ALD R-200 Advanced） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®A......
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距
参考成交价格： 暂无
型号：PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
PICOSUN™ 200mm 生产线上的产品是200mm以下晶圆的自动化、高产量的工业ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro ALD设备。该工具可以独立工作，也可以集成到PICOPLATFORM™200真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间，所有PICOSUN™的ALD系统有着紧凑，高效的设计。集成的专业机柜，装......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料
参考成交价格： 暂无
型号：PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术，并在各种各样的衬底上都表现极佳的均匀性，包括最具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的，易更换的前驱源系统，能够在晶圆、3D样品和各种纳米特性的样品上生长颗粒度最小的薄膜层。在最基本的PICOSUN™ R系列配置中可以选择多个独立......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版（PICOSUN™ ALD R-200 Standard） 敏捷的设计实现了最高质量的ALD薄膜沉积以及系统的最终灵活性，可以满足未来的需求和应用。 的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒工艺，适用于晶圆，3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™技术，即使......
Picosun适应性强其客户包括最大的电子制造商，小型的创新型挑战者以及全球领先的大学。 Picosun的组织机构和种类繁多的ALD解决方案都可以满足每个客户的需求。PICOSUN®研发工具具有独特的内置可扩展性，可确保将研究结果平稳过渡到大批量工业制造中，而不会出现技术差距。ALD主要应用：1.在集成电路上的应用：Fin-FET和HKMG工艺在Si衬底......
PICOSUN®P-300BPICOSUN®P-300B ALD系统是专为生产MEMS设备（例如打印头，传感器和麦克风）以及各种3D物品（例如机械零件，玻璃或金属薄板，硬币，手表零件和珠宝，镜片，光学器件以及医疗设备和植入物。PICOSUN®P-300 ALD系统已成为大批量ALD制造中的新标准。通过将我们的 热墙设计与完全分开的入口集成在一起，我们......