原子层沉积 picosun
PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括最大的电子制造商，小型的创新型挑战......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版（PICOSUN™ ALD R-200 Standard） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro（PICOSUN™ ALD R-200 S Pro）原子层沉积系统（ ALD P-200） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Ma......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版（PICOSUN™ ALD R-200 Advanced） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®A......
Savannah ALD原子层沉积系统已成为全球从事ALD研究、寻求经济实惠且稳健平台的大学研究人员优先的系统。过去十年中，我们已交付数百套此类系统。Savannah®高效利用前体和节能功能，大幅降低了薄膜沉积系统的运行成本。Savannah ALD原子层沉积系统主要特点包括：原位椭偏度原位量子运力学自组装单分子层 &......
Fiji ALD原子层沉积系统是一种模块化、高真空热原子层沉积系统，采用灵活的架构和多种前驱体和等离子体气体配置，可适应各种沉积模式。Fiji ALD是下一代 ALD 系统，能够执行热成像和等离子体增强沉积。我们应用了的计算流体力学分析，优化Fiji ALD反应堆、加热器和陷阱几何结构。系统的直观界面使得监控和根据需要更改配方和流程变得轻松。Fiji ALD......
Beneq TFS 200原子层沉积ALD为学术和企业研发设计，是一款高度多功能的原子层沉积（ALD）平台，在真正的 ALD 模式下提供出色的胶片质量。 系统的模块化架构允许多种升级，确保无论多么复杂，都能随着你的研究需求不断演进。 1.产品概述：Beneq TFS 200原子层沉积ALD 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ALD 平台。 T......
Beneq Transform ALD原子层沉积系统是一款ALD集群工具，专为电力电子（SiC、GaN、Si）、射频、光电子、微型LED、MEMS和传感器领域的技术开发和制造而设计。Beneq Transform ALD原子层沉积系统专为批量生产打造，能够根据吞吐量和应用需求进行扩展。它是需要表面工程应用的理想平台，如宽带间隙材料的表面钝化。多功能平台热增强......
Beneq Prodigy™ ALD原子层沉积系统是VCSEL、LED和MEMS制造商及代工厂的理想制造解决方案，旨在通过一款经济实惠的独立ALD批处理工具提升器件性能和可靠性。Beneq Prodigy™ ALD原子层沉积系统提供多种晶圆类型和尺寸的钝化和/或封装薄膜。价值 ......
PRIME™系列沉积系统是美国Arradiance公司专为需要突破台式设备局限的实验室与产线团队设计的新一代落地式ALD/MLD系统。无论您是需要提升产能还是处理更大尺寸的三维衬底，PRIME™均可支持从研发到量产的规模化应用。PRIME™系列系列可兼容无机与有机前驱体（包含极低蒸气压材料），支持热功能以及具备等离子体增强功能的分子层沉积（MLD）与原子层沉......