芬兰picosun f-120 ald 原子层沉积器

牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

参考成交价格: 暂无

牛津仪器 原子层沉积系统(ALD)

型号: 牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

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OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项,包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵......

原子层沉积(ALD)Picosun

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Picosun 原子层沉积(ALD)

型号:PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版

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PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200基础版(PICOSUN™ALDR-200Standard)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。P......

PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200基础版(PICOSUN™ALDR-200Standard)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,总部位于芬兰的Espoo,生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。Picosun适应性......

Picosun原子层沉积(ALD)

参考成交价格: 暂无

Picosun 原子层沉积(ALD)

型号:PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版

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PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200基础版(PICOSUN™ALDR-200Standard)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,总部位于芬兰的Espoo,生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。Picosun适应性......

Picosun原子层沉积(ALD)

参考成交价格: 暂无

Picosun 原子层沉积(ALD)

型号:PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro

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PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200 Pro(PICOSUN™ALDR-200S Pro)原子层沉积系统(ALDP-200)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设......

原子层沉积(ALD)Picosun

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Picosun 原子层沉积(ALD)

型号:PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版

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PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200高级版(PICOSUN™ALDR-200Advanced)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,总部位于芬兰的Espoo,生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计,并且不断发展以提高效率。Picosun适应性......

原子层沉积(ALD)Picosun

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Picosun 原子层沉积(ALD)

型号:PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版

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OpAL系统是一种直立式热原子层沉积(ALD)设备,配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD,在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子体选项,适用于直径小至200mm的晶圆。它可以实时监测四种液体或固体前驱体的蒸气吸取或鼓泡,包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可通过简......

OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,具有等离子体选项。它可以升级为等离子体ALD,这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。这款紧凑型直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子体选项,适用于小尺寸至200mm的晶圆片。它可以实时检测蒸汽吸收或鼓泡四种液体或固体前驱体,并且可以与ALD控制软件联接的光谱椭偏仪。OpAL系......