牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统沉积系统

OpAL系统是一种直立式热原子层沉积（ALD）设备，配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD，在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于直径小至200mm的晶圆。它可以实时监测四种液体或固体前驱体的蒸气吸取或鼓泡，包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可通过简单的途径升级为等离子体，使得在一个紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。牛津仪器拥有丰富的工艺经验，并不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、持续的工艺支持，同时为您提供开发新材料的建议，并分享新的ALD工艺进展，包括新的工艺配方。设备特点包括配备具有样品传送入口的氮气吹扫手套箱，易于拆卸的内腔室，减少腔室清洗时间，机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫，保证健康和安全的气动起重装置，以及抽气罩或氮气吹扫手套箱，应用广泛，涵盖纳米电子、高K栅氧化物存储电容电介质、Cu互连的高深宽比扩散隔层、OLED和聚合物的无针孔钝化层、晶体硅太阳能电池的钝化、微流体和MEM的高保形涂层，以及纳米多孔结构的涂层和生物MEMS或燃料电池。

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