牛津仪器 牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统

OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，具有等离子体选项。它可以升级为等离子体ALD，这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。这款紧凑型直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于小尺寸至200mm的晶圆片。它可以实时检测蒸汽吸收或鼓泡四种液体或固体前驱体，并且可以与ALD控制软件联接的光谱椭偏仪。OpAL系统可以通过清晰且易行的方式升级为等离子体ALD，这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。牛津仪器拥有丰富的工艺储备，同时不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、延续不断的工艺支持，并且将为您提供开发新材料的建议，同时继续与您分享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。此外，OpAL系统还具有以下特点：可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱，适用于干燥环境; 易于拆卸的内腔室，可以减少腔室清洗时间；机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫，以确保健康和安全的承诺；气动起重装置，用于安全打开腔室；可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱，以确保健康和安全的承诺。OpAL系统可以应用在多种领域，包括纳米电子高K栅氧化物存储电容电介质、Cu互连的高深宽比扩散隔层、OLED和聚合物的无针孔钝化层、晶体硅太阳能电池的钝化、微流体和MEM的高保形涂层，以及纳米多孔结构的涂层生物MEMS燃料电池。

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