plasma刻蚀的主要参数

牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上......

牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE适用于Semiconductor项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Semiconductor等样品。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 准确的刻蚀深度控制......

牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE可用于测定Optoelectronic Semiconductor,适用于Optoelectronic Semiconductor项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semicon......

牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Semiconductor项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Semiconductor等样品。可应用于高分子材料行业领域。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 紧密的设计,......

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牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE可以用在电子/半导体行业领域,用来检测Semiconductor,可完成Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 我们的设备和工艺已通过......

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牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Optoelectronic Semiconductor的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Optoelectronic Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconduct......

牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Optoelectronic Semiconductor,符合行业标准Oxford Instruments。适用Optoelectronic Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconductor Device Manuf......