分子束外延蒸发源
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......
产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热式那样与坩埚发生反应。*可能需要使用坩埚内衬。能迅速控制输出，因而能精确地控制膜厚。与溅射法及 ......
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......
产品规格：型号zei大输出功率偏转角度灯丝电子束扫描坩埚氧化物金属BS-60060DEBS6.4kW270°Ｕ字形（长寿命）快速扫描无*2◎○BS-60050EBS10kW270°无*2◎○BS-60040VDGN10kW270°无*2◎○BS-60030DGN10kW270°无*2◎○EBG-102UB6S10kW180°漩涡形12cc×6 个◎○EBG-......
BS/JST系列电子枪/电源和偏转型电子枪结合使用，用作电子束蒸镀的高压电源。产品特点：和偏转型电子枪结合使用，用作电子束蒸镀的高压电源。BS-720xxICE系列电源多功能、高性能、采用按钮操作。产品规格：型号zei大输出功率加速电压发射电流备注BS-72020ICE10kW-2 ～ -10kV0 ～ 1A1 个电子枪BS-72050ICE10kW-2 ～......
薄膜制备领导者BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是zei理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wa......
仪器简介：洁净的反应管是获得正确分析结果的前提,而通常空白消解的清洗方式不仅费时而且效率较低.酸蒸清洗器确保了痕量分析和超痕量分析zei低的空白值.酸蒸清洗器可用于清洗微波消解或常规压力消解的各种消解罐,如PFA,PTFE,或石英罐.甚至用于烧杯,容量瓶,ICP的雾化室和火炬管等的痕量清洗.整个清洗是通过石墨加热板加热产生的高纯酸蒸气对器皿的反复对流和冷凝淋......
仪器简介： 美国SVT公司是世界顶级的MBE供应商，具有18年的MBE设备制造经验。数位核心工程师拥有25年以上的MBE经验。 占据美国主要科研市场的SVT分子束外延系统，以其专业化的超高真空技术和薄膜生长技术搏得了广大客户的青睐。 独立的设计和生产能力使我们能够为每一位尊贵的用户量身打造其需要的生长和测试设备。 ......
脉冲激光沉积镀膜系统（PLD MBE） Mobile Combi-Laser MBE system 系统的主体是一个UHV激光分子束外延装置。使用准分子激光进行基底加热；脉冲激光做为幅照源。使用两个组合的掩膜和一个扫描式的反射高能电子衍射（RHEED）设备，系统能同时制备很多样品（......
随着新型氧化物/氮化物的研究和发展，用于沉积它们的外延生长设备：激光脉冲沉积(PLD)和由其衍生的生长技术也越来越受到科研工作者的重视和青睐。PLD是近年来发展起来的一种真空物理沉积工艺，具有衬底温度较低，而且采用光学系统、非接触加热和避免不必要的玷污等特点。PLD还有一个很大的优点，即能够通入较高的氧分压(1 ~ 50 mTorr)，特别适于氧化物的生长。......