分子束外延设备
优异的性能价格比，Mantis公司生产的分子束外延系统（配置脉冲激光沉积模块）落户广州的华南理工大学，为众多老师开启薄膜外延制备的新篇章。欢迎前来参观咨询。 主腔室 *1、2英寸高真空沉积系统，500mm直径； 2、椭圆形或者半球形，304#不锈钢，金属密封； 3、沉积......
仪器简介：HALO 201 MBE 分子束外延残余气体分析四极质谱仪用于泄漏探测、趋势分析、真空诊断的过程监测和残余气体的精确分析。该分子束外延特定分析质谱仪由兼容性材料组成，并能在分子束外延环境中长期使用。主要特点：·钼铜布线增加MBE环境下系统的寿命·抗污染离子源护罩·双法拉第/ channelplate电子倍增器技术规格：·质量数范围：&nb......
仪器简介： 美国SVT公司是世界顶级的MBE供应商，具有18年的MBE设备制造经验。数位核心工程师拥有25年以上的MBE经验。 占据美国主要科研市场的SVT分子束外延系统，以其专业化的超高真空技术和薄膜生长技术搏得了广大客户的青睐。 独立的设计和生产能力使我们能够为每一位尊贵的用户量身打造其需要的生长和测试设备。 ......
薄膜制备领导者BlueWave是一家著名的美国半导体设备、材料生产商。BlueWave提供多种薄膜制备系统，包括脉冲激光沉积(PLD)、电子束蒸发、热蒸发、反应溅射、热丝化学气相沉积(HFCVD)、热化学气相沉积系统(TCVD)。这些系统是zei理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。Blue Wa......
随着新型氧化物/氮化物的研究和发展，用于沉积它们的外延生长设备：激光脉冲沉积(PLD)和由其衍生的生长技术也越来越受到科研工作者的重视和青睐。PLD是近年来发展起来的一种真空物理沉积工艺，具有衬底温度较低，而且采用光学系统、非接触加热和避免不必要的玷污等特点。PLD还有一个很大的优点，即能够通入较高的氧分压(1 ~ 50 mTorr)，特别适于氧化物的生长。......
产品特点：zei快达到100ＭＨｚ的高速化扫描速度，保证了大电流描画时的扫描步距很短，因而能提高对精度要求极高的图形描画的产出量。由激光束控制（LBC）的0.15nm（λ/4096）的zei小定位单位及高分辨率，达到了世界zei高水准的位置精度。本公司独自的自动校正功能(自动补偿功能)，实现了可信赖的长时间稳定地描画。自动补偿可以根据时间（任意的）、场和图形......
描述：Hiden的XBS系统通过实时信号输出对多个来源进行现场监测，以精确控制沉积。XBS三级滤过四极质谱(MBE Deposition Rate Monitoring / Control System)，适于精确的MBE分析，其他气体分析和科学实验使用。Windows™ 界面的MASsoft软件通过RS232、RS485 或以太网控制。......
GENxplor R&D MBE分子束外延系统是一款面向化合物半导体研发市场的集成式分子束外延设备，以紧凑单框架设计和高工艺灵活性著称，适用于多种前沿材料的原子级精确生长研究。GENxplor R&D MBE分子束外延系统因化合物半导体制造获得CSindustry奖，采用Veeco经过验证的3英寸生长室设计，具备优秀的工艺灵活性——非常适合新......
GEN10 MBE分子束外延系统是经过验证的平台中最灵活的集群工具系统，支持最多三个可配置的材料特定增长模块。这使得系统利用率高，使多位研究人员能够同时使用系统，进行无人值守的生长和校准。结合Veeco零部件技术，是MBE社区无论应用何种，都选择GEN10™ MBE系统的关键因素。GEN10 MBE分子束外延系统特点：自动晶圆转移实现了高系统利用率，使多位研......