原子沉积系统
仪器简介：原子层沉积（ALD）简介： 原子层沉积（Atomic Layer Deposition，ALD），zei初称为原子层外延（Atomic Layer Epitaxy，ALE），也称为原子层化学气相沉积（Atomic Layer Chemical Vapor&......
台式三维原子层沉积系统ALD &nbs......
仪器简介： 原子层淀积(ALD)技术正逐渐成为了微电子器件制造领域的必须.多年来，原子层淀积技术的应用范围涉及从液晶显示面板(LCD panel)到工业涂 层等多种领域，目前，该技术正被开拓到先进微电子制造工艺中，例如制备用于晶体管 栅堆垛及电容器中的高k介质和金属薄膜、铜阻挡/籽晶膜、刻蚀终止层、多种间隙层和 薄膜扩散阻挡层、磁头......
美国SVT公司ALD原子层沉积系统 自1990年来薄膜淀积设备顶级制造商。 拥有独立的室内实验室用于材料研究和工艺开发。 提供广泛的服务，包括淀积设备、淀积部件、集成传感器以及工艺控制 设备制造和工艺技术的高度结合，为客户提供可靠的技术服务 实验室7台应用淀积设备生长出世界级的材料 多条设备生产线几乎覆盖了整个薄膜淀积设备市场 在薄......
仪器简介：全球zei专业的原子层沉积系统ALD制造商，十多年来一直致力于ALD核心技术的研发，迄今拥有数十项注册专利在ALD的设计和薄膜制备工艺方面，并长期与全球著名的高校、研究所以及半导体、微电子领域的制造商合作； 原子层沉积技术可沉积材料： 氧化物: Al2O3, ZrO2, HfO2, Ta2O5, SnO2, RuO2, ZnO, S......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro（PICOSUN™ ALD R-200 S Pro）原子层沉积系统（ ALD P-200） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Ma......
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版（PICOSUN™ ALD R-200 Standard） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版（PICOSUN™ ALD R-200 Advanced） 名称：原子层沉积系统 产地：芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®A......
P 系列粉末原子层沉积系统粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命，如锂电正极或负极材料，经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升，但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主，该方法包覆均匀性较差，性能提升有限。ALD 技术可实现高精度及均匀包覆，是理想的包覆手段。Forge Nano 针对粉末类材料比表面积大的特点......