应用报告 | 光刻胶的光固化反应热测量

2026-04-10 10:22:10, 日立分析仪器 日立分析仪器（上海）有限公司

前言


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光刻胶具有分辨率高、可微细加工、能在短时间内形成抗蚀刻薄膜等特点，因此被广泛应用于印刷电路板、电子元件制造和印刷制版等领域。然而，众所周知，光刻胶抗蚀刻薄膜的形成状态因光固化过程中的波长、照射强度和反应温度等条件而异。因此，为了形成最佳的抗刻蚀薄膜，需要考虑各种固化条件。

在光刻胶中，用于蚀刻印刷电路板的干膜由通过聚合反应固化的丙烯酸单体、用于成膜的粘合剂聚合物和光固化引发剂等组成。测量光固化反应对确定每种材料的特性都很重要。

此应用报告介绍使用光化学反应量热仪测量干膜在各种条件下的固化反应，并举例说明反应性的评估。欢迎下载了解。



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