【阿拉丁】氢氟酸：氧化层刻蚀的“精准利器”

• 刻蚀适配性强：对二氧化硅（SiO2）具有高效选择性刻蚀能力，反应速率易控，可精准去除氧化层且对基底损伤小，契合湿法刻蚀低成本、批量处理的优势。

• 浓度稳定性佳：49wt.% 标准化水溶液配比，避免浓度波动影响刻蚀均匀性，可直接适配标准化湿法刻蚀流程，减少工艺调试成本。

• 杂质控制严苛：电子级高纯度特性，可有效规避金属杂质残留对后续工艺及器件性能的干扰，保障制程良率。

• 二氧化硅刻蚀研究：作为核心刻蚀液，用于氧化层刻蚀机理探索、刻蚀速率与精度优化研究。

• 石英器皿清洗：适配实验室及产线石英器件的高精度清洗，去除表面氧化残留与污染物。

• 湿法刻蚀工艺优化：用于探索刻蚀液配比、温度等参数对刻蚀效果的影响，为工艺标准化提供数据支撑。

阿拉丁氢氟酸（H116237）依托PrimorTrace™ Ultra子品牌，专为半导体前道刻蚀工艺定制，核心优势尽显：

• 高标准纯度管控：PrimorTrace™ Ultra级，≥99.99998%（metals basis），实现金属杂质的超低残留控制，契合半导体前道工艺对微痕量杂质的严苛要求。

• 标准化浓度校准：49wt.%固定浓度经出厂精准校准，无需二次调配即可直接投入使用，规避浓度偏差导致的刻蚀失效风险。

• 多层级产品供给：构建多维度氢氟酸产品体系，涵盖多纯度级别，搭配不同浓度配比选择，结合多规格包装，适配不同科研场景，方便科研人员按需灵活选型。

官方网址：www.aladdin-e.com

客户服务热线：400-620-6333

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