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BS/JEBG/EBG 系列电子枪
用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。
产品特点:
电子束蒸镀法的特征
用电子束直接照射镀膜材料进行加热,因此热效率高,能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。
镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热,因此不会象电阻加热式或感应加热式那样与坩埚发生反应。*可能需要使用坩埚内衬。
能迅速控制输出,因而能精确地控制膜厚。
与溅射法及 CVD 法相比,能快速镀膜是一大特征。对形成1µm 以上的厚膜也很有效。
日本电子制造的电子枪/电源的特征
[ 氧化物 ]电子束垂直照射镀膜材料,束斑近似圆形,具有能量密度高的特征。此外,由于标准配备了快速扫描功能,非常适合蒸镀融点高、热传导性低的氧化物及升华性材料,能获得良好的熔痕,大面积的镀膜区域上膜厚分布均匀,重现性好。[ 金属 ]坩埚的选择范围很大,能进行多种、大量、高速率的蒸镀,还有用来抑制成膜时温度上升的剥离工艺用电子枪。[ 合金复合膜 ]往临近的两个或三个坩埚内充填不同的材料,使用专用的扫描控制器进行双源或三源蒸发,可以形成合金膜和复合膜。
产品规格:
*1: EB电源zei大输出功率为16kW,实际能使用的zei大输出功率为16kW。
*2: 可以定制 ⇒12cc×4 或6个 等
*3: 坩堝小凹孔的形状可以改变 ⇒ 28cc(φ45×20h)×6个, 51cc(φ60×20h)×3个等。
*4: 可以定制 ⇒40cc(φ50×25h)×4或6个, 114cc(φ75×30h)×1个等
*5: 可以定制 ⇒114cc(φ75×30h)×1个, φ34×20h×3个小凹穴(同时蒸镀用), φ70×30h×4个 等
关于坩埚规格请另行咨询。
BS/JEBG/EBG 系列电子束蒸镀用电子枪,BS/JEBG/EBG 系列
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