您好,欢迎您查看分析测试百科网,请问有什么帮助您的?
如果企业客服不在线,也可拨打400电话联系。或者发布求购信息
JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
产品特点:
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。
是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。
产品规格:
JBX-3050MV 电子束光刻系统,JBX-3050MV
JBX-3050MV 电子束光刻系统信息由日本电子株式会社(JEOL)为您提供,如您想了解更多关于JBX-3050MV 电子束光刻系统报价、型号、参数等信息,欢迎来电或留言咨询。
JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统
JEM-ARM200F冷场发射球差校正透射电镜
JSM-IT200扫描电子显微镜
群组论坛--样品前处理
您可能要找:日本电子电子束刻蚀JBX-3050MV 电子束光刻系统价格JBX-3050MV 电子束刻蚀参数
Copyright ©2007 ANTPedia, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号