Quantum Design电子束刻蚀Microwriter ML3用于测定MoS2、Cr2S3，符合行业标准High-Performance Wafer-Scale MoS2 Transistors toward Practical Application. Small 2018, 1803465。适用无掩膜光刻直写项目。

Microwriter ML3	基本型	增强型	旗舰型
大样品尺寸	155×155×7mm	155×155×7mm	230×230×15mm
大直写面积	149mm x 149mm	149mm x 149mm	195mm x 195mm
曝光光源	405 nm LED 1.5W	405 nm LED 1.5W	385 nm LED 适用于SU-8 （365+405nm双光源可选）
直写分辨率	1μm	1μm and 5 μm	0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直写速度	20mm²/min @ 1μm	20mm²/min @ 1μm 120mm²/min @ 5μm	25mm²/min @ 0.6μm 50mm²/min @ 1μm 100mm²/min @ 2μm 180mm²/min @ 5μm
对准显微镜镜头	x10	x3 and x10 自动切换	x3, x5, x10, x20 自动切换
多层套刻精度	±1μm	±1μm	±0.5μm
小栅格精度	200nm	200nm	100nm
样品台小步长	100nm	100nm	50nm
光学轮廓Z分辨率	无(可升级)	300nm	100nm
样品表面自动对焦	是	是	是
灰度直写(255级)	是	是	是
自动晶片检查工具	无(可升级)	有	有
温控样品腔室	无 (可升级)	无 (可升级)	有
虚拟模板校准工具	无(可升级)	无(可升级)	有
气动减震光学平台	无(可升级)	无(可升级)	有

应用实例

直写分辨率1μm

直写分辨率0.6μm

微电制备

光刻胶上的图形 Au电（SEM） Au电（SEM）

设计图光刻胶上的图形放大图的显微结构

微结构制备

微流通道制备

小型台式无掩膜光刻系统

小型台式无掩膜光刻系统Microwriter ML3是英国Durham Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提供方便高效的微加工方案。

传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩膜板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩膜板的设计通常需要经常改变。无掩膜光刻技术通过以软件设计电子掩膜板的方法，克服了这一问题。与通过物理掩膜板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案。

Microwriter ML3 是一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧凑(70cm X 70cm X 70cm)，无掩膜直写系统的灵活性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。适用于各种实验室桌面。

产品特点

Focus Lock自动对焦功能 Focus Lock技术是利用自动对焦功能对样品表面高度进行探测，并通过Z向调整和补偿，以保证曝光分辨率。		光学轮廓仪 Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探测与套刻。Z向高精度100 nm，方便快捷。

直写前预检查软件可以实时显微观测基体表面，并显示预直写图形位置。通过实时调整位置、角度，直到设计图形按要求与已有结构重合，保证直写准确。		标记物自动识别点击“Bulls-Eye”按钮，系统自动在显微镜图像中识别光刻标记。标记物被识别后，将自动将其移动到显微镜中心位置。

简单的直写软件 MicroWriter 由一个简单直观的Windows界面软件控制。工具栏会引导使用者进行简单的布局设计、基片对准和曝光的基本操作。该软件在Windows10系统下运行。		Clewin 掩模图形设计软件 • 可以读取多种图形设计文件（DXF, CIF, GDSII, 等） • 可以直接读取TIFF, BMP 等图片格式 • 书写范围只由基片尺寸决定

产品参数

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Quantum Design小型台式无掩膜光刻机电子束刻蚀 应用于电子/半导体

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