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13.56MHz高频输出的等离子清洗机,搭载RIE·DP双模式使用等离子的表面处理装置。着重于“使用简单”的台式 高性能型号,调取数据简单,以电子材料为中心,可对应 多种用途。特征● 可变更电极构造提高等离子效果。● 搭载高精度适配器,高性能RF 电源。● 可根据需求规格提供定制。用途● 硅晶圆的灰化及蚀刻● 基板表面污垢处理● IC/LED封装、BGA/CSP基板处理● 半导体相关部品的电子材料的干式清洗● 自然氧化膜·有机物去除● 界面活性处理● 表面污染物去除内槽规格
管路连接图
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