pecvd设备参数

System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术, PlasmalabSystem100可以有很多的配置,详情如下。主要特点可处理8 &q......

保冷柜(血液复温设备)参数

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型号:保冷柜(血液复温设备)参数FYL-YS-431L

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保冷柜(血液复温设备价格)参数

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保暖柜(库血复温设备)参数

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牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于纳米材料行业领域。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备......

牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Nano Material,符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目。 纳米材料生长和表征 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、......

牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用......

牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用......

雷磁 型 多参数水质分析仪DGB-401用于测定工业废水,生活废水,河水,符合行业标准生活饮用水卫生标准 GB 5749-2005,污水综合排放标准 GB 8978-1996,海水水质标准 GB3097-1997,地表水环境质量标准 GB 3838-2002,城镇污水处理厂污染物排放标准 GB18918-2002。适用化学需氧量COD值,氨氮,总磷项目。 水......

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