pecvd设备解析
处理精确的质谱数据、结构解析和批量分析的PeakView™软件 显示谱峰之间的质量差异生成扣除背景的谱图，合并相关谱图或创建轮廓图 数据质量、质量亏损和同位素模式过滤数据 快速简单的定性数据查看和比较，在一个窗口中可以同时查看多个样本的色谱图或热流图 XIC管理器可以快速生成提取离子流色谱......
System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术， PlasmalabSystem100可以有很多的配置，详情如下。主要特点可处理8 &q......
PM2.5在线源解析系统构成 PM2.5在线源解析质谱监测系统包括三部分：在线单颗粒气溶胶质谱仪、污染源谱库、“指纹”比对模型及离线数据处理软件。产品 1）SPAMS 0515/0525 标准型和机动型 性能配置满足绝大部分气溶胶相关研究的需求。机动型的SPAMS 0525还配备了性能更佳的减震系统，适......
Camsco热解析管CAMSCO是全世界BCT的热解析管生产厂家，拥有多项技术BCT，他们生产的热解析管100%美国制造。管子的质量从材料到性能都是业界BCT的，多年来一直受到美国军队的使用和热爱。CAMSCO提供PE、Markes(Agilent)、Gerstel、岛津、Tekmar、DANI及CDS等各种热解析仪适用的热解析管，还可用户定制。......
描述选择适合半制备二元泵 (HPG-3200BX) 的配置溶剂架，适用于大型溶剂容器 (SR-3000)恒温或非恒温半制备自动进样器（WPS-3000TSL、WPS-3000SL）二极管阵列、多波长、可变波长、荧光、荷电气溶胶、示差或质谱检测器，具有半制备流通池或流后分流Viper 手拧装配技术连接，适用于系统管道（zei高仅限 180 µm ID）pH 值......
CDS 7550S 全自动热解析仪可实现连续 72 位样品中有机物检测，可以用于气体中挥发性以及半挥发性物 质的测定，可和任意品牌气相以及气质配套使用，可以应用于环境、汽车、包装、食品、香精香料、烟草、 化学、玩具、 毒理及犯罪等各种领域。CDS 7550S 全自动热解析仪一款50年技术沉淀的稳定可靠的VOCs 检测利器，具有优异的性能。先进技术：捕集阱支持......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于纳米材料行业领域。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Nano Material，符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目。 纳米材料生长和表征 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用......