pecvd 进气
System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有工艺灵活性，适用于化合物半导体，光电子学，光子学，微机电系统和微流体技术， PlasmalabSystem100可以有很多的配置，详情如下。主要特点可处理8 &q......
描述支持热/冷分流和不分流模式，以及大体积进样（溶剂分流）和柱头进样（TPOC）与 Merlin Microseal 隔垫兼容含空气冷却的温度范围：室温 + 5 ℃ 至 450 ℃低温选项zei低温度：液氮冷却 -100 ℃；CO2 冷却 -50 ℃。程序升温多达 3 个梯度，zei高可达 870 ℃/min快速冷却紧凑且低热熔设计和高效强制通风系统便捷的低......
产品介绍微量进样器可供科研,化工,炼油,医院等单位作分析使用.特别适宜作气相色谱仪进行分析,是一种必不可少的精密器械.产品特点● 由Teflon活塞,钳头,锁紧头组成● 主要与气相色谱仪,水份测定仪等相关色谱仪器配套使用● 针头可拆卸产品规格货号品名容量包装S2223-500μl-10EAS2223-500μl 锁紧头微量进样器500μl1箱(1支/盒×10......
描述扩展选项 对重视预算的实验室而言，即时连接模块为启动单一通道仪器并扩展为多个进样口或多个检测器配置提供了灵活性，以适应新的应用或更高的通量需求。更加出色的 GC 和 GC-MS 性能优化的加热曲线避免了在分流模式下样品歧视在不分流模式下可准确注入涵盖范围zei广的分析物完全无氧扩散操作——是准确进样到高性能质谱仪所需的为即时生产率准......
描述支持热/冷分流和不分流模式，以及大体积进样（溶剂分流）和柱头进样（TPOC）与 Merlin Microseal 隔垫兼容含空气冷却的温度范围：室温 + 5 ℃ 至 450 ℃低温选项zei低温度：液氮冷却 -100 ℃；CO2 冷却 -50 ℃。程序升温多达 3 个梯度，zei高可达 870 ℃/min快速冷却紧凑且低热熔设计和高效强制通风系统便捷的低......
描述扩展选项 对重视预算的实验室而言，即时连接模块为启动单一通道仪器并扩展为多个进样口或多个检测器配置提供了灵活性，以适应新的应用或更高的通量需求。更加出色的 GC 和 GC-MS 性能优化的加热曲线避免了在分流模式下样品歧视在不分流模式下可准确注入涵盖范围zei广的分析物完全无氧扩散操作——是准确进样到高性能质谱仪所需的为即时生产率准......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD可以用在纳米材料行业领域，用来检测Nano Material，可完成Nano Material项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 纳米材料生长和表征 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于高分子材料行业领域。 半导体制造解决方案 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSys......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD可以用在纳米材料行业领域，用来检测Power Semiconductors，可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采......
气相色谱仪TriPlus RSH™ 气相/气质自动进样器 标准有特定规范与标准，应用于环境水/废水行业领域。点击查看相关规范标准。 结论 除液体、顶空和 SPME 进样模式外，Thermo ScientificTM TriPlus RSHTM 自动进样器还扩展了自动化功能。配有先进的内置机器手，系统提供卓越的精确度、无与伦比的......