pecvd主要技术参数
描述更强大的分离能力通过 Vanquish 二元泵 H 模块的流畅运送和正确梯度获得一致结果。轻松使用扩展压力范围，包含专有进样和切换阀的整个系统便是为之而造。更高的泵压力：1500 bar (22,000 psi) 泵压力更高的流速：达 5 mL/min更多溶剂通道：2x3在无需暂停实验更换溶剂的情况下，可实现多达九种不同溶剂组合更可靠地控制分离Vanqu......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于纳米材料行业领域。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备......
安捷伦MPT4210 MP-AES参考多项行业标准。完成牛奶的检测。可以用在多个行业领域中的主要元素分析项目。 使用维护成本低 — 安捷伦 MP-AES 可实现无人值守运行，无需使用易燃或昂贵的气体，显著降低了运行成本。使用简单 — 面向具体应用的软件程序加上即插即用式硬件，使得任何用户均可快速完成设置，无需进行方法开发或校准，并且很大程度减少了培训需求实......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 选择单晶片/批处理或盒式进样，采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中，采用中央机械......
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用......
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Nano Material，符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目。 纳米材料生长和表征 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、......
安捷伦Agilent 4210 MP-AES用于测定甲醇，符合行业标准。适用钙、钾、镁和钠等主要元素项目。 在典型的多元素分析中，Agilent 4210 MP-AES 拥有高灵敏度、低至 ppb 水平的检测限、全面超越传统火焰原子吸收的分析效率。Agilent 4210 MP-AES 最大的优点是使用空气运行，无需采用可燃气体。安捷伦 MP-AES 技术......
安捷伦气相色谱仪Intuvo 9000可以用在多个行业领域，用来检测DFTPP、4,4’-DDT、联苯胺和五氯酚，可完成主要成分含量项目。符合多项行业标准。 Agilent Intuvo 9000 气相色谱系统彻底改变了用户执行气相色谱分析的方式，开辟了全面提高运行效率和业务成果的新途径。Intuvo 秉承了安捷伦气相色谱的卓越性能和稳定性，并采用......
安东帕声速仪DSA 5000 M适用于主要成分、打印性能项目，参考多项行业标准。可以检测墨汁等样品。可应用于玩具/文体用品行业领域。 墨汁的密度、声速、粘度对墨汁生产者来说是非常重要的，这些物理量可以反映出原材料和最终产品的质量和功能等方面的重要信息。可以通过墨汁的声速值检查原材料的纯度。 温度：0-100℃（32-212℉）压力：0-8bar(0-116 ......