等离子沉积参数
电弧等离子体沉积系统日本ADVANCE RIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统（APD）利用脉冲电弧放电将电导材料离子化，产生高能离子并沉积在基底上，制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。电弧等离子体沉积系统利用通过控制脉冲能量，可以在1.5nm到6nm范围内控制纳米颗粒直径，活性好，产量高。多种靶材同时制备可生成新化合物。金属/半导体制备同时控制腔体气氛，可以产生......
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）, 通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。 MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司的 CYRANNUS® 等离子技术解决了传统等离子技术的局......
天瑞仪器ICP-MSICP-MS 2000用于测定土壤,水系沉积物，符合行业标准。适用重金属元素项目。 电感耦合等离子体质谱仪 (简称ICP-MS），是20世纪80年代发展起来的一种新的微量（10-6）、痕量（10-9）和超痕量（10-12）元素分析技术。ICP-MS可测 定元素周期表中大部分元素，且具有更低的检出限、更宽的动态线性范围、谱线简单、......
安捷伦ICP-MS7900参考多项行业标准EPA 方法 6020A。完成高 TDS 样品,地表水,地下水,工业废水,土壤,污泥,沉积物的检测。可以用在固体废物/辐射行业领域中的多元素项目。 产品特性：● 优异的高盐基质耐受能力 — Agilent 7900 ICP-MS 的稳定等离子体和可选的超耐高盐进样系统 (UHMI) 可帮助您对高达 25% ......
ADVANCE RIKO电弧等离子体沉积系统暂无用于测定铂-镍合金纳米颗粒堆叠薄膜，符合行业标准N. Todoroki, et al., Pt−Ni Nanoparticle-Stacking Thin Film: Highly Active Electrocatalysts for Oxygen Reduction Reaction. ACS Catal.......
ADVANCE RIKO电弧等离子体沉积系统暂无可用于测定铂-镍合金纳米颗粒堆叠薄膜，适用于双电弧等离子体源共沉积项目。并且参考多项行业标准N. Todoroki, et al., Pt−Ni Nanoparticle-Stacking Thin Film: Highly Active Electrocatalysts for Oxygen Reductio......
赛默飞ICP-MSiCAP 7000 Plus用于测定石墨 粉，符合行业标准。适用等离子体参数、分析谱线选择、基体效应项目。 iCAP 7000 Plus系列ICP-OES体积小巧，集约化的设计在保证高性能的基础上进一步节省了操作空间。其主要创新点如下：1.分析速度快，采用标配的快速进样阀之后，zei快可实现20s/样品，与通常2min/样的速度相比，可大......
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD）通过等离子增加前驱体的反应速率，降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD是制备大尺寸单晶金刚石有效手段之一。德国iplas公司的CYRANNUS®等离子技术解决了传统等离子技术的局限，可以在10mbar到室压范围内激发高稳定度的等......
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD微波等离子化学气相沉积技术（MPCVD），是通过等离子体提高前驱体的反应速率，降低反应温度。它适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态良好的高质量硬质薄膜和晶体。MPCVD被广泛应用于制备大尺寸单晶金刚石。德国iplas公司开发的CYRANNUS®等离子技术解决了传统等离子技术的问题，能够在10mbar到室压范围内激发......
iMLayer 基质蒸镀系统（气相沉积）负责样品前处理（施加基质），用于配合 iMScope 影像质谱显微镜或 MALDI-7090 等分析系统，开展 MALDI-MS 成像分析。该系统采用气相沉积法进行前处理，可实现高空间分辨率。通过此方法能够形成精细的基质结晶，并依托自动化控制，按照用户设定条件获得重现性优异的蒸镀层厚度。ItemApplicable m......