纳米硅薄膜的镜反射红外光谱研究

研究探讨了镜反射红外光谱在纳米材料方面的应用。通过等离子化学气相沉积法（PECVD），制备本征和掺磷的纳米硅薄膜(nc-Si:H)，利用镜反射红外光谱研究了本征和掺磷的纳米硅薄膜的光谱特征，通过实验发现这两种薄膜中都存在多氢键合方式，PECVD工艺参数如衬底温度、直流电压和掺杂浓度对薄膜结构具有一定的影响。