辉光放电光谱仪和直读光谱仪
GDS850辉光放电光谱仪辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，可配置58个通道。特征溅射与激发分离宽......
PDA-5000采用全新设计的免维护数字激发光源，取消了以往通过辅助电极间隙的高电压激发样品-对电极间放电的辅助电极方式，并与独具特色的工厂校正曲线和人性化的操作 软件相结合，可实现对所需元素的精确鉴定和稳定分析，同时确保了操作简单、维护便捷，是一款黑色金属制造及加工企业的理想选择。光电直读光谱仪PDA-5000特点全新的......
GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光......
GD-Profiler HR拥有独一无二的超高光谱分辨率，为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）......
配备CCD检测器的GDS500A辉光放电原子发射光谱仪提供了最先进的技术，专门设计用于在大多数导电固体材料的常规元素的测定。 通过使用辉光放电的方法，样品材料均匀地从表面溅射。非热激发的采样过程，为一些检测困难的样品提供的技术上的支撑。 它具有更好的性能，稳定性，准确性和精度，坚固的结构设计足以应对较差的生产环境。特征宽动态范围的线性校准均匀样品激发改善了精......
赛默飞OESARL iSpark可用于测定钢铁,铝,铜,锌, 镍,铅，适用于元素分析项目。并且参考多项行业标准。可应用于地矿/有色金属行业领域。 火花激发导体样品 -金属电极和样品之间的激发光源脉冲电流在冲氩分析室中产生等离子样品局部熔化，并在等离子体中“汽化”原子中电子跃迁，等离子体中离子汽化火花放电过程中，一般在几秒钟内产生2000个单火花 连续光谱，可......
辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。特征溅射与激发分离宽动态范围的线性校......
GDS950 辉光放电光谱仪 （GDS） 提供最先进的技术，专为大多数导电和非导电固体基质中的常规元素测定和成分深度分析而设计。用户友好Cornerstone将品牌软件引入平台，以提高可用性、简化报告并简化分析时间，从而节省您在实验室的时间。特征辉光放电源带来了许多优点，包括：与其他源相比，简单的线性校准远离样品表面发生的受控激发减少参考物质消耗分析之间的自......
点击查看下载PDA-5000岛津直读光谱仪 光电直读光谱仪 _相关资料，进一步了解产品。 iF Design Award (iF国际产品设计大奖)由德国IF (International Forum Design) 汉诺威国际论坛设计有限公司主办，诞生于1953年，至今已有60余年的悠久历史。它以振兴工业设计为目的，提倡设计创新理念，每年都会召开......
点击查看下载堀场HORIBA GDSHORIBA 射频辉光放电光谱仪 GD-Profiler 系列射频辉光放电光谱仪 - 中文相关资料，进一步了解产品。 现在，大多数的材料都是多层结构，比如太阳能光伏电池、LED、硬盘、锂电池电极、镀层玻璃等。它们表面经过特殊处理或采用了先进镀层来改善材料性能，如提高耐腐蚀能力。 辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的......