岛津辉光放电光谱仪
GDS850辉光放电光谱仪辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，可配置58个通道。特征溅射与激发分离宽......
Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的zei佳工具。 ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：· &nb......
GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具，非常适合于导体（和/或）非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。GD-Profiler 2可分析几纳米到200微米的深度，深度分辨率小于1纳米。GD-Profiler 2采用了脉冲式射频辉光......
GD-Profiler HR拥有独一无二的超高光谱分辨率，为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数：1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作模式既可以分析常规的涂/镀层和薄膜，也可以很好地分析热导性能差和热易碎的涂/镀层和薄膜。3、Polyscan多道（同时）......
配备CCD检测器的GDS500A辉光放电原子发射光谱仪提供了最先进的技术，专门设计用于在大多数导电固体材料的常规元素的测定。 通过使用辉光放电的方法，样品材料均匀地从表面溅射。非热激发的采样过程，为一些检测困难的样品提供的技术上的支撑。 它具有更好的性能，稳定性，准确性和精度，坚固的结构设计足以应对较差的生产环境。特征宽动态范围的线性校准均匀样品激发改善了精......
Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的zei佳工具。 ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：&m......
Thermo Scientific ELEMENT GD结合了辉光放电离子源和双聚焦高分辨率质量分析器，可以定性定量分析固体样品中包括C、N、O在内的几乎所有元素，是直接、快速分析高纯样品杂志含量和镀层材料元素组成的zei佳工具。 ELEMENT GD集中了辉光放电和高分辨质谱的优势，在以下方面有杰出表现：· &nb......
赛默飞双聚焦辉光放电质谱仪ELEMENT GD Plus可以用在电子/半导体行业领域，用来检测整体材料，可完成超痕量金属项目。符合多项行业标准相对灵敏度系数。 ELEMENT GD PLUS GD-MS 将具有优越属性的不同部件集成在单一仪器中，提供了无与伦比的速度、灵敏度和准确性。ELEMENT GD PLUS GD-MS 离子源和样品夹的设......
辉光放电光谱法采用低压，冷激发光源，材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道。特征溅射与激发分离宽动态范围的线性校......
点击查看下载堀场HORIBA GDSHORIBA 射频辉光放电光谱仪 GD-Profiler 系列射频辉光放电光谱仪 - 中文相关资料，进一步了解产品。 现在，大多数的材料都是多层结构，比如太阳能光伏电池、LED、硬盘、锂电池电极、镀层玻璃等。它们表面经过特殊处理或采用了先进镀层来改善材料性能，如提高耐腐蚀能力。 辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的......