镀膜机用观察镜

德国徕卡 镀膜仪 EM ACE600

参考成交价格: 40~80万元[人民币]

徕卡 镀膜机

型号:Leica EM ACE600

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高真空镀膜机 Leica EM ACE600您选择了用于TEM和FE-SEM分析的zei高分辨率。Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,导电的金属和碳涂层,用于zei高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于......

德国徕卡 镀膜仪 EM ACE200

参考成交价格: 20~30万元[人民币]

徕卡 镀膜机

型号:Leica EM ACE200

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低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕......

视网膜正像观察镜 Leica RUV800Leica RUV800是一个内置了倒像镜的视网膜广角观察系统。特点如下:为术者、助手以及摄录像系统提供正像网膜影像,并且显微镜视野范围内(观察镜成像范围内以及成像范围外)均为正像收起广角观察系统后,仍为正像影像使用简便,易拆装因此,Leica手术显微镜可同时适用前节以及后节手术,在前后节手术之间轻易转换为您带来的优......

Improve sample preparation by optimal coating高真空镀膜机 Leica EM ACE600——您选择了用于TEM和FE-SEM分析的最高分辨率。Leica EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细的和导电的金属和碳涂层,用于最高分辨率分析。这种......

低真空镀膜机 喷金仪|喷碳仪|蒸镀仪 Leica EM ACE200——为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕......

Leica RUV800是一个内置了倒像镜的视网膜广角观察系统。特点如下:1.为术者、助手以及摄录像系统提供正像网膜影像,并且显微镜视野范围内(观察镜成像范围内以及成像范围外)均为正像;2.收起广角观察系统后,仍为正像影像;3.使用简便,易拆装。因此,Leica手术显微镜可同时适用前节以及后节手术,在前后节手术之间轻易转换。经济性传统呈像系统要求安装倒像镜后......

为SEM和TEM分析生产同质和导电的金属或碳涂层,之前从未有过比与Leica EM ACE200涂层系统更方便的设备了。配置为溅射镀膜机或碳丝蒸发镀膜机后,可以在全自动化系统中获得完全可重复的结果,实现了一台EM ACE200具有喷金仪,喷碳仪,蒸镀仪三种功能。如果您的分析需要这两种方法,徕卡显微系统在一台仪器中提供可互换机头的组合仪表。各个选项,如石英晶体......

产品简介:磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。技术参数卷膜条件镀膜材料:PET 和无纺布适用制膜:软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。基材厚度:125~300μm......

Leica EM SCD005是一套台式溅射镀膜仪,可产生颗粒细腻,高质量的导电膜,主要使用一些贵金属,如金,金/钯,铱,银或铂。即便工业领域应用的晶片或CD等大样品也可实现镀膜。Leica EM SCD005也提供单碳丝/多碳丝蒸发镀膜,适用于X射线微区元素分析(EDX,WDX)时在样品表面镀导电碳膜,也适用于给带有火棉胶或formvar膜的铜网镀碳支持膜......

钙钛矿镀膜机

参考成交价格: 暂无

沈阳科晶 镀膜机

型号:钙钛矿镀膜机

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钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。主要特点1、样品位于真空室上方,蒸发......