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E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜
发布时间：
2022-07-28 11:58
来源：那诺-马斯特中国有限公司
| 领域： | 电子/电器/半导体 | ||
| 资料类型： | 其他资料 | ||
下载地址1：E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜
NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统：NEE-4000电子束蒸发系统为双腔配置，样品台位于主腔体，二级腔体则用于安置电子束源。两腔体之间的门阀作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的情况下，通过主腔放入基片到样平台（或夹具）上或从中取出。自动装/卸载基片可通过第三方的预真空锁实现。通过PC计算机控制，系统可以提供多电子束源的共蒸发能力，以及对组分或组分梯度进行编程的能力。
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