技术揭秘！氧化物半导体的“终极消解”现场

新仪TANK 微波消解仪

18位100 mL消解罐，分析天平(十万分之一)等。

硝酸(67%)、盐酸(36%)、氢氟酸(47%)，氟硼酸(50%)、纯水。

1、取样

各称取样品①、②和③ 0.1 g（精确值0.1 mg）左右，加入到消解罐内。

2、加酸

往消解罐中加入一定量的硝酸、盐酸和氢氟酸，保证样品都浸没在酸液里。静置片刻，盖好盖子，放置到转子上。

3、消解

打开微波消解仪电源，按下表参数设定消解升温程序一：

4、测试

消解完成后，待样品冷却至60℃，取出消解罐，冷却定容至50 mL，待上机测试。

备注：①和②消解澄清透明，③有白色沉淀

1、取样

称取样品③ 0.1 g（精确值0.1 mg）左右，加入到消解罐内。

2、加酸

往消解罐中加入一定量的盐酸和氟硼酸，保证样品都浸没在酸液里。静置片刻，盖好盖子，放置到转子上。

3、消解

打开微波消解仪电源，按下表参数设定消解升温程序二：

结果：

③半导体氧化物称样0.1 g，230℃保温一小时，消解澄清透明。

注意事项：

硝酸有强烈的腐蚀性和氧化性，盐酸、氢氟酸具有强烈的腐蚀性，加酸步骤必须在通风橱中进行，且实验人员要做好防护。  

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