突破物理极限！Alluxa发布超低应力二向色性镀膜技术，攻克超薄基底变形难题

近日，Alluxa 正式宣布了一项突破性的技术进展：基于其专有的 Sirrus™ 等离子体物理气相沉积 (PVD) 工艺，成功研发出全新的 ULTRA 低应力二向色性镀膜工艺 (ULTRA Low-Stress Dichroic Process)。

这项技术的最大亮点在于：它能够在厚度小于 1.0 毫米 (<1.0 mm)的超薄基底上，实现完全致密的介质光学镀膜，同时将薄膜应力降至前所未有的极低水平。

这意味着，光学工程师在进行系统设计时，不再需要为了妥协镀膜应力而被迫增加基底厚度。这一突破极大地减少了设计限制，为光学仪器的微型化和极致性能打开了新的大门。

在过去，降低镀膜应力往往意味着要牺牲一定的光学性能（例如边缘陡度或透射率）。但 Alluxa 的研发团队打破了这一常规。

全新的低应力工艺被完美整合进了 Alluxa 备受赞誉的 ULTRA 系列产品线中。这意味着，这些超薄、超平的二向色性滤光片，依然具备 ULTRA 系列标志性的“顶配”参数：

• 极陡峭的边缘过渡 (Steep Edges)：实现波段之间的精准切割。

• 超高透射率 (High Transmission)：最大限度保留目标光信号。

• 卓越的反射率 (Superior Reflection)：确保光路的高效分离与导向。

正如 Alluxa 总裁 Peter Egerton 所言：

“我们非常激动能为客户带来这项新能力。多年来，‘在超薄基底上实现高性能、陡边缘的二向色镜’一直是客户频繁提出的迫切需求。我们的工程团队付出了巨大的努力，最终构思并创新出了这一完美的解决方案。”