OLS5500直播来袭，EVIDENT邀您揭秘微纳制造与检测技术方案

在半导体产业高速发展的当下，先进封装、MEMS传感器、集成光子学等领域的创新，使得微纳制造技术正迎来规模化爆发与精细化演进，从深硅刻蚀、晶圆级键合、电镀与化学机械抛光，到纳米级薄膜沉积、定向自组装与极紫外光刻等工艺，不断推动器件向更小尺寸、更高集成与更复杂三维结构演进。在这一趋势下，微纳尺度的表面形貌、粗糙度、三维尺寸已成为影响器件性能、可靠性与良率的关键参数。传统单一测量技术或在不同设备间切换的流程，已难以满足研发中对精度、效率与可重复性的复合型苛刻要求。

为聚焦行业前沿挑战，共享创新解决方案，奥伟登(Evident)将于1月14日举办“微纳制造与检测技术应用”网络研讨会。旨在为一线研发、工艺与质量人员提供一个聚焦难题、直击方案、探讨前沿的高价值交流平台。通过微纳研究与制造领域专家，以及奥伟登技术专家结合全新LEXT OLS5500精准测量激光共聚焦显微镜分享报告，提供新的解决思路。

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