DUALBEAM 显微镜

Helios 5 DualBeam

用于 TEM 和 STEM 成像或原子探针断层扫描的样品制备。产品可实现先进的自动化操作，简单易用，并且能够进行高质量的亚表面 3D 表征。

新一代 Thermo Scientific Helios 5 DualBeam 具有 Helios DualBeam 显微镜产品系列领先业界的高性能电子显微镜成像和分析性能。它经过精心设计，可满足材料科学研究人员和工程师对各种聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 的需求  - 即使是最具挑战性的样品。

Helios 5 DualBeam 重新定义了 高分辨率成像的标准：高材料对比度、快速、简单和精确的高质量S/TEM样品制备和APT样品制备，以及高质量的亚表面和 3D 表征。新一代 Helios 5 DualBeam 在 Helios DualBeam 系列成熟功能的基础上改进优化，旨在确保系统于手动或自动工作流程下的最佳运行状态。这些改进包括：

• 更易于使用：Helios 5 DualBeam 是不同经验用户最易使用的 DualBeam。操作员培训可以从几个月缩短到几天，系统设计可帮助所有操作员在各种高级应用程序上实现一致、可重复的结果。

• 提高了生产率：Helios 5 DualBeam 和 Thermo Scientific AutoTEM 5 软件的高级自动化功能、增强的稳固性和稳定性允许无人照看甚至夜间操作，显著提高了样品制备通量。

• 缩短出结果的时间：Helios 5 DualBeam 现在包括新调整图像方法 FLASH。对于传统的显微镜来说，每次操作员需要获取图像时，必须通过迭代对中仔细调整显微镜。使用 Helios 5 DualBeam 时，通过屏幕上的简单手势即可激活 FLASH，从而自动调整这些参数。自动调整可以显着提高通量、数据质量并简化高质量图像的采集。

Thermo Scientific Helios 5 DualBeam 是行业领先的 Helios DualBeam 系列的第五代产品之一。本款产品经精心设计，可满足科学家和工程师的需求，它将具有极高分辨率成像和高材料对比度的创新性 Elstar 电子柱与可进行快速、简单、精确的高质量样品制备的出色的 Thermo Scientific Tomahawk 离子柱加以结合。除了先进的电子和离子光学系统，Helios 5 DualBeam 还采用了一套最先进的技术，能够实现简单、一致的高分辨率 (S)/TEM 和原子探针断层扫描 (APT) 样品制备，还能够为最具挑战性的样品提供高质量的亚表面和 3D 表征。

AutoTEM 5 软件进行快速、简单、 全自动、无人值守的多现场原位和非原位 TEM 样品制备以及交叉切片。

以最短时间获得纳米级信息

使用一流的 Thermo Scientific Elstar 电子镜筒为任何经验水平的用户提供 Thermo Scientific SmartAlign 和 FLASH 技术支持。

新一代 UC+ 单色器技术

凭借具有更高电流的新一代 UC+ 单色器技术，可以在低能量下实现亚纳米性能，从而显示最细致的细节信息。

完整的样品信息

可通过多达 6 个集成在色谱柱内和透镜下的集成检测器获得清晰、精确且无电荷的对比度。

3D 分析

使用可选配的 Thermo Scientific Auto Slice & View 4 (AS&V4) 软件通过精确靶向目标区域而获得高质量、多模式的亚表面和 3D 信息。

快速纳米原型设计

对临界尺寸小于 10 nm 的复杂结构进行快速、准确、精确的铣削和沉积。

精确的样品导航

在 150-mm 压电载物台的高稳定性和准确性或 110-mm 载物台的灵活性以及腔室内 Thermo Scientific Nav-Cam 摄像机的支持下根据具体应用需求进行定制。

无伪影成像

基于集成的样品清洁度管理和专用成像模式，例如 DCFI 和 SmartScan 模式。

STEM 成像

Thermo Scientific Helios 5 FX 的配置具有独特的原位 3Å 分辨率 STEM 功能，可提供高高效的工作流程。

文档部分中的数据表。

图像

使用 Helios 5 UX DualBeam 生成的高质量、超薄片 (<100> SrTiO3) 的 60 kV 高分辨率 STEM (HRSTEM) 图像。

使用 Helios DualBeam 和 Auto Slice&View 4 (AS&V4) 为 3D 数据采集制备的样品表面。

使用 AutoTEM 5 软件在一小时内即可使用 Helios DualBeam 生成高质量 TEM 薄片，是最简单和自动化程度最高的 TEM 样品制备工作流程。

采用电镜进行过程控制

现代工业需求高通量、质量卓越、通过稳健的工艺控制维持平衡。SEM扫描电镜和TEM透射电镜工具结合专用的自动化软件，为过程监控和改进提供了快速、多尺度的信息。

质量控制和故障分析

质量控制和保证对于现代工业至关重要。我们提供一系列用于缺陷多尺度和多模式分析的 EM电子显微镜和光谱工具，使您可以为过程控制和改进做出可靠、明智的决策。

基础材料研究

越来越小的规模研究新型材料，以最大限度地控制其物理和化学特性。电子显微镜为研究人员提供了对微米到纳米级各种材料特性的重要见解。

半导体探索和开发

先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。

良率提升和计量

我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能，旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。

半导体故障分析

越来越复杂的半导体器件结构导致更多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。

物理和化学表征

持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程，可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。

电源半导体设备分析

电源设备让定位故障面临独特的挑战，主要是由于电源设备结构和布局。我们的电源设备分析工具和工作流程可在工作条件下快速实现故障定位并提供精确、高通量的分析，以便表征材料、接口和设备结构。

显示设备故障分析

不断发展的显示技术旨在提高显示质量和光转换效率，以支持不同行业领域的应用，同时继续降低生产成本。我们的过程计量、故障分析和研发解决方案帮助显示公司解决这些挑战。

(S)TEM 样品制备

(S)TEM 样品制备

DualBeam显微镜可制备用于(S)TEM分析的高质量、超薄样品。借助先进的自动化技术，任何经验水平的用户都可以获得各种材料的专家级结果。

了解更多 ›

赛默飞Helios 5 DualBeam 聚焦离子束扫描电子显微镜（FIB-SEM）信息由赛默飞世尔科技（中国）有限公司为您提供，如您想了解更多关于赛默飞Helios 5 DualBeam 聚焦离子束扫描电子显微镜（FIB-SEM）报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

可为您的实验室提供全套综合服务、需求定制服务，从而助您提高实验室生产力与工作效率。