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特点
独立交钥匙PLD系统
PLD-CCS 三元连续组分扩散
无退火和掩模
在“真正的”沉积条件下(比如800℃,500mTorr)薄膜成长
Wafer尺寸:标准型直径2”(4” 和6”需客户定制)
外延薄膜、多层异质结构和超晶格的沉积
高温下氧化膜沉积的氧兼容性
沉积过程中生产多种不同材料成分的能力大大加快了达到具有理想材料性能的最佳材料成分的速度。连续组成扩展功能PLD (CCS -PLD)是基于自然发生在PLD中的沉积速率,这是Cosn (θ) (5 ≤ n ≤ 11)的结果。PLD- CCS得益于使用Neocera软件进行多层沉积的益处,以及PLD过程固有的正向特性,可以改变二元/三元/四元相的组成。PLD-CCS在而不是在离散元件中而不是模拟方案中改变材料,从而消除了对掩模的需要。连续组成扩展功能(CCS)可在单次沉积中沉积很多不同组分的材料,大大缩短了沉积不同组分材料合成新材料的时间, 实现合成材料组分的优化。PLD-CCS 系统能以连续的方式改变材料,没有必要使用掩模。可以在每一次循环中,以小于 一个单分子层的速率,快速连续沉积每一种组份,其结果是类似于共沉积法。该法无需在沉积后进行退火促进内部扩散或 结晶,对于生长温度是关键参数的研究或者被沉积的材料或基片不适合高温退火的情况是非常有帮助的。Neocera 公司 PLD 系统可在同一个系统上实现带有连续组成扩展功能(CCS-PLD)和标准型 PLD 功能。
组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System,Combinatorial PLD System
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脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System
离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
大尺寸脉冲激光沉积系统 Large-Area PLD Systems
脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
脉冲激光沉积系统Pioneer 180 PLD System
脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
组合型脉冲激光沉积系统 Combinatorial PLD System
2020年8月4日,第十六届MOCVD会议在安徽黄山屯溪香茗酒店隆重召开,大会共有26家半导体相关企业参展,500余人参加。 本次大会以“先进光电技术·智能绿色制造”为主题展开,大会主办方热烈欢迎来自全国的参展企业和参会人员,随后就半导体的发展和成果做了详细的报告。 &nb
2020年11月4日到6日,表面工程工艺技术中心第九届技术交流会在中国贵州省遵义隆重举行。此次会议由中国航天科技集团有限公司主办,重庆表面工程协会承办、贵州航天精工制造有限公司协办。大会主题包括薄膜、 涂层、表面改性、表面分析、航天器、武器装备应用等相关领域。与会代表人数约200人,与会者来自中国航天科技集团有限公司的19家理事单位、高校的专家学者等等。大家齐聚遵义,共商基于航天器表面应用的表面工程技术的研究现状,
中国物理学会秋季学术会议 (CPS Fall Meeting)以下简称秋季会议,是由中国物理学会主办的年度学术会议,中国物理学会2019年秋季学术会议由郑州大学承办,将于2019年9月19日(报到)—22日在郑州大学主校区举行。会议将以大会特邀报告、分会邀请报告、口头报告和张贴报告等形式交流,并围绕物理学相关专业领域分设20个专题分会。 我公司作为参展商也将出席此次会议,会议现场我们公司将展示:Picosun ALD原子层沉积系统
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