光刻胶分析仪
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珀金埃尔默系列ICP-MS-MS-MS三重四极杆串级电感耦合等离子体质谱仪NexION 350参考多项行业标准。完成光刻胶的检测。可以用在高分子材料行业领域中的Si项目。 使用ICP、ICP-MS分析时存在光学干扰，而仪器的结构又决定了Si的检出限比其他元素更高，所以为了分析低浓度的Si，必须去除光学干扰或更换仪器进样系统 ( 雾室、雾化器、中心管、炬管 )......
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