电化学沉积 仪器 报价
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器，光......
上世纪九十年代，随着半导体工业的兴起，对各种元器件尺寸，集成度等方面的要求越来越高，原子层沉积技术才迎来发展的黄金阶段。进入21世纪，随着适应各种制备需求的商品化ALD仪器的研制成功，无论在基础研究还是实际应用方面，原子层沉积技术都受到人们越来越多的关注。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等......
牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包......
品牌:牛津仪器型号:Ionfab300产地:欧洲Ionfab 300 IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现， 因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Semiconductor，符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra用于测定Semiconductor，符合行业标准Oxford Instruments。适用Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Discrete Semiconductor Device Manufacture 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Nano Material，适用于Nano Material项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 纳米材料生长和表征 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力......
海光仪器测汞HGA-100用于测定土壤，沉积物，符合行业标准暂无·。适用测定土壤以及沉积物中汞项目。 ▄ 操作流程取样（固体称量、液体吸取、气体采集）———自动进样检测———5min内得到检测数据▄ 适用标准GB 5009.17-2021 食品安全国家标准 食品中总汞及有机汞的......
可耐受高温和化学侵蚀。具有最小的溶液携带量。玻璃复合式电极。具有可重新填充参比接点，除了05998-30型电极。该电极具有高温KNO3凝胶。所有型号的电极都具有BNC接头。技术参数：产品类型：Sealed主体类型：Glass基准接合点：Single温度范围：212°F(100°C)参比室类型：Ag/AgCl连接器：BNC推荐的使用：Semisolids;fo......
可耐受高温和化学侵蚀具有最小的溶液携带量玻璃复合式电极具有可重新填充参比接点05998-30型电极除外该电极具有高温KNO3凝胶所有型号的电极都具有BNC接头技术参数产品类型：Sealed主体类型：Glass基准接合点：Single温度范围：212°F(100°C)参比室类型：Ag/AgCl连接器：BNC推荐的使用：Semisolids;foods,etc尺......