ald 沉积 设备 报价
PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是一家全球公司，Picosun的总部位于芬兰的Espoo，其生产设施位于芬兰的Masala（Kirkkonummi）。PICOSUN®ALD设备专为高产量和高产量而设计，并且不断发展以提高效率。Picosun适应性强其客户包括最大的电子制造商，小型的创新型挑战......
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子选项适用于小尺寸至200mm的晶圆片蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体实时检测选项，包括与ALD控制软件相联的光谱椭偏仪ALD产品家族涵......
原子层沉积(atomiclayer deposition，ALD)技术，亦称原子层外延(atomiclayer epitaxy，ALE）技术，是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术。原子层沉积技术起源于上世纪六七十年代，由前苏联科学家Aleskovskii和Koltsov首次报道，随后，基于电致发光薄膜平板显示器对高质量ZnS: Mn薄膜材料的......
原子层沉积技术起源于上世纪六七十年代，由前苏联科学家Aleskovskii和Koltsov首次报道，随后，基于电致发光薄膜平板显示器对高质量ZnS: Mn薄膜材料的需求，由芬兰Suntalo博士发展并完善。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积（ALD）设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD，这样便可在一个结构紧凑的设备上实现......
OpAL系统是一种直立式热原子层沉积（ALD）设备，配备等离子体选项。它能够简单地实现从热ALD升级到等离子体ALD，在一个紧凑的结构上实现等离子体和热ALD。紧凑型直立式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于直径小至200mm的晶圆。它可以实时监测四种液体或固体前驱体的蒸气吸取或鼓泡，包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可通过简......
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，具有等离子体选项。它可以升级为等离子体ALD，这样就可以在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。这款紧凑型直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于小尺寸至200mm的晶圆片。它可以实时检测蒸汽吸收或鼓泡四种液体或固体前驱体，并且可以与ALD控制软件联接的光谱椭偏仪。OpAL系......
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种高效的研发工具，将粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术结合在一起。该系统具有旋转式反应腔，可用于粉末样品的分散，同时也支持快速切换平面样品。PANDORA 设有在线分析系统，可以实时监测前驱体和副产物，帮助改良沉积工艺。此外，石英微天平可以实时监测材料的质量变化，帮助研究者获得更高质量的薄膜。系统符合 cG......
THEIA 超快平面原子层沉积系统（ALD）是一款高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型设备，具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可以进行升级改造，以满足科学研究的各种需求，实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。产品规格1. 专利技术 SMFD-ALD 超快沉积速度：12-30nm/min2. 低维护周期：平均每50μm沉积后维护一次3. 专利阀门：可实现......
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种卓越的研发工具，结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术，可轻松在粉末和平面样品之间切换，而不影响研究效率。产品规格如下：1. 前驱体通道：3-6连续流/静态流兼容3. 反应腔：100ml粉末腔/10×10cm平面4. 反应腔结构：旋转式5. 反应腔温度：最高200℃6. 配件：In-situQCM，等离......
THEIA 超快平面原子层沉积系统以高性能、稳定和灵活为特点，能够满足科学研究的各种需求，并且无缝衔接研发和生产之间的转换。产品规格：1. 专利技术SMFD-ALDTM，超快沉积速度为12-30nm/min2. 低维护周期：平均每50μm沉积后维护一次3. 专利阀门：可实现小于1ms的开关控制，寿命达到1亿次循环，在220℃下长期稳定工作4. 薄膜不均匀度小......