ForgeNano原子层沉积(ALD)超快平面原子层沉积系统

THEIA 超快平面原子层沉积系统（ALD）是一款高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型设备，具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可以进行升级改造，以满足科学研究的各种需求，实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。
产品规格
1. 专利技术 SMFD-ALD 超快沉积速度：12-30nm/min
2. 低维护周期：平均每50μm沉积后维护一次
3. 专利阀门：可实现<1ms开关控制，寿命可达10亿次循环，在220℃下长期稳定工作
4. 薄膜不均匀度 <1%
5. 可容纳3片75-300mm基片，300×300×10mm的腔室
产品特点
THEIA 解决了困扰 ALD 工艺多年以来的问题：效率与维护。ALD 虽然拥有较好的膜厚控制与均一性，但因为效率不高，市场容量仍然低于CVD。ForgeNano 拥有 SMFD-ALD 超快沉积技术，可以实现最快12-30nm/min的沉积效率，将 ALD 沉积效率提升到新的高度。同时实现前驱体高利用率以及低维护成本，与CVD相比，THEIA 的集成减排设计可以实现污染物“零排放”，避免了环境污染问题，节约大量成本，为 ALD 工艺提供了新的参考标准。

ForgeNano原子层沉积(ALD)超快平面原子层沉积系统信息由复纳科学仪器（上海）有限公司为您提供，如您想了解更多关于ForgeNano原子层沉积(ALD)超快平面原子层沉积系统报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询。

注：该产品未在中华人民共和国食品药品监督管理部门申请医疗器械注册和备案，不可用于临床诊断或治疗等相关用途