nima仪器
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仪器简介： KSV NIMA LB膜分析系统是由计算机控制的高性能的LB镀膜系统，其应用广泛、操作灵活。 系统结构模块化，可扩展升级的硬件和软件；整个系统框架型结构，允许添加其它附属装置，例如：可以与布鲁斯特角显微镜BAM联用；高质量的硬质熔结槽体；可进行膜的荧光和光谱分析，测量pH值和表面势能等。 KSV N......
KSV NIMA界面剪切流变仪KSV NIMA 界面剪切流变仪提供了一种极端灵敏的测试流体界面（气/液和液/液）薄膜剪切性能的方法。可同步测量界面粘弹性和表面压，测试的同时也能够控制薄膜组装密度。应用薄膜的应力和形变之间的关系定义了其流变属性。在人体内和工业领域中的绝大部分薄膜属于粘弹性薄膜，即应力和形变的关系介于纯粘性和纯弹性之间。流变特性对确定产品的稳定......
KSV NIMA Langmuir膜分析仪KSV NIMA Langmuir及Langmuir-Blodgett膜分析仪是在Langmuir薄膜的制备、表征（包括显微镜）和Langmuir-Blodgett膜的沉积领域方面应用最广泛的一款全球领先仪器。KSV NIMA Langmuir 及Langmuir-Blodgett膜分析仪可用于单分子层膜的制备及表征......
KSV NIMA Dip Coater浸渍镀膜机仪器简介：仪器用途：用于溶液中的物质在基片上的成膜仪器原理：固体基片在没有表面压缩时，单一的浸入溶液，然后从溶液中退出，溶液中的材料就沉积到基片表面技术参数：沉积行程： 300 mm基片尺寸： 最大8英寸控制装置： 电子控制单元控制方式： 软件控制沉积速度： 1 to 1000 mm/min主要特点：该系统为软......
KSV NIMA LB膜分析仪一、仪器简介：KSV NIMA LB膜分析系统是由计算机控制的高性能的LB镀膜系统，其应用广泛、操作灵活。系统结构模块化，可扩展升级的硬件和软件；整个系统框架型结构，允许添加其它附属装置，例如：可以与布鲁斯特角显微镜BAM联用；高质量的硬质熔结槽体；可进行膜的荧光和光谱分析，测量pH值和表面势能等。KSV NIMA LB膜分析系......
KSV NIMA界面流变仪一、主要应用：1、 预测乳液、泡沫和泡沫稳定性2、 测定薄膜结构3、 测定相转变4、 实时监测表面凝胶化和网络生长5、 连续监测蛋白质吸附和变性6、 测定薄膜中缠结和氢键二、技术参数：1、 动态摸量测量的下限: 0.001 mN/m2、 频率范围: 0.......
KSV NIMA 布鲁斯特角显微镜KSV NIMA Brewster Angle Microscope布鲁斯特角显微镜（ BAM） 能够在气液界面上对Langmuir单分子层或吸附膜进行可视化观察。与Langmuir槽联用能够研究：单分子层/薄膜行为它能够观察相变、相分离、域的尺寸、形状和堆积行为。单分子层/薄膜均匀性结合KSV NIMA L＆LB槽，能够在......
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb刻蚀锑化镓刻蚀GaN刻蚀氮化镓刻蚀InSb刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAsP刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀InGaAlP刻蚀铝镓铟磷刻蚀InP刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP刻蚀磷......
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb刻蚀锑化镓刻蚀GaN刻蚀氮化镓刻蚀InSb刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAsP刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀InGaAlP刻蚀铝镓铟磷刻蚀InP刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP刻蚀磷......