等离子清洗 电镜
TraceCLEAN 酸逆流清洗系统适用于元素分析所使用的各种TFM/PFA/石英等器皿的超痕量快速清洗，全自动清洗过程，包括各种消解罐，矩管等。它能安全地清洗痕量分析所使用的各种附件，需要清洗的器皿放入清洗系统，新鲜的由蒸馏而来的酸蒸汽在密闭的腔体内持续地逆流，清洗掉器皿上的元素残留。每批次容器清洗时间≤1小时，随洗随用消解罐持续被亚沸蒸馏出的超纯酸热蒸汽......
Features特性在低温过程中能形成高密度氧化膜。电子束激发等离子体的反应沉积，与离子辅助效应有关。活化反应蒸发（ARE）技术，促进坩埚上方的高效放电，以增强蒸发材料的电离。可选择CPPS模式、低温工艺和正常等离子模式。可以改装到现有的真空室。该等离子体源专门用于低温工艺，例如塑料基板/薄膜。真空沉积膜的薄膜质量可以通过等离子辅助沉积来降低基板的温度升高来......
仪器简介：洁净的反应管是获得正确分析结果的前提,而通常空白消解的清洗方式不仅费时而且效率较低.酸蒸清洗器确保了痕量分析和超痕量分析最低的空白值.酸蒸清洗器可用于清洗微波消解或常规压力消解的各种消解罐,如PFA,PTFE,或石英罐.甚至用于烧杯,容量瓶,ICP的雾化室和火炬管等的痕量清洗.整个清洗是通过石墨加热板加热产生的高纯酸蒸气对器皿的反复对流和冷凝淋洗作......
主要特点：高效而经济的清洗工具操作简单方便高效zei低的空白值zei低的清洗试剂消耗技术参数：接触反应管和试剂部分材质 : PFA, PTFE加热板材质: 镀PTFE石墨温度范围 : zei高250°C批处理能力 : zei多48个反应容器 (zei小内径15 mm,zei大长度240 mm)试剂容积 : 400 mL (重复多......
安东帕超声波清洗机, 酸蒸清洗器可用于清洗微波消解或常规压力消解的各种消解罐，如PFA、PTFE、或石英罐；甚至用于烧杯、容量瓶、ICP的雾化室和火炬管等的痕量清洗。 整个清洗是通过石墨加热板加热产生的高纯酸蒸气对器皿的反复对流和冷凝淋洗作用下完成的。清洗器采用空气冷却而无需额外冷却水，可以实现经济安全的过夜工作。技术参数：接触反应管和试剂部分材质 : PF......
CIF 扫描电镜（SEM）等离子清洗机采用远程、原位双等离子清洗源设计，并可自动切换，一机多用。远程等离子体清洗快速高效低轰击损伤，同时可实现常规等离子清洗。主要用于SEM或FIB等电镜腔体内碳氢化合物的清洗。 产品特点双等离子清洗源一机多用高效低损伤技术参数产品型......
Diener电镜专用等离子清洗机用途： 主要用于除去透射电镜样品及样品杆上的污染，防止碳沉积以降低图像分辨率及对样品微区分析造成误判。还可以利用该仪器清洗各类光阑等电子显微镜配件。特别适用于场发射扫描电镜和场发射透射电镜。用这种低能高频等离子体清洗样品表面，不会改变样品元素成份和表面结构特征。主要技术参数：1. ......
进口品牌涡轮分子泵和无油隔膜泵的完美配合产生一个洁净的<3*10-6 Torr的真空压强。特别适用于TEM 样品杆的真空存储、检漏和样品等离子体清洗用途。采用远程射频离子源清洗，高效、低等离子体轰击损伤。标配两路清洗气体流量控制器，触摸屏控制，即插即用。......
进口品牌涡轮分子泵和无油隔膜泵的完美配合产生一个洁净的<3*10-6 Torr的真空压强。特别适用于TEM 样品杆的真空存储、检漏和样品等离子体清洗用途。采用远程射频离子源清洗，高效、低等离子体轰击损伤。标配两路清洗气体流量控制器，触摸屏控制，即插即用。 ......
现象描述：样品在电镜中长时间成像，或进行EDX成分分析过程中，可能会在测试区域形成“黑色方框”，这通常是由聚合物碳沉积引起。成因分析：当高能电子撞击样品表面时，它们产生大量低能二次电子（SE）。SE由于其较低的速度而与环境污染物气体分子具有高得多的相互作用面。它们分解有机污染，并在成像区域周围造成“碳沉积”（碳氢化合物或烃）。当表面被薄层烃覆盖时，二次电子产......