等离子清洗仪 电镜
产品功能介绍等离子清洗技术起源于约30年前的半导体行业,等离子清洗主要用于清洗样品表面的碳氢化合物.等离子清洗的关键要点在于：不能改变样品本身的化学组成;不能改变样品的结构特征;不能损伤样品表面.SOLARUS - 全新先进等离子体清洗系统，去除碳氢化合物对TEM和SEM样品台或样品的污染。Solarus是新一代等离子系统，其改造的新概念和最新技术......
Agilent 5800 ICP-OES 是一款专为业务繁忙的实验室而设计的 ICP-OES 光谱仪或发射光谱仪，旨在帮助实验室节约浪费的时间。这款智能 ICP 采用包含内置传感器、算法和诊断功能的智能化监控体系，可以在故障发生之前发现问题，从而尽可能延长正常运行时间并大幅减少需要重新测定的样品数量。任何其他电感耦合等离子体发射光谱仪 (ICP-O......
Features特性在低温过程中能形成高密度氧化膜。电子束激发等离子体的反应沉积，与离子辅助效应有关。活化反应蒸发（ARE）技术，促进坩埚上方的高效放电，以增强蒸发材料的电离。可选择CPPS模式、低温工艺和正常等离子模式。可以改装到现有的真空室。该等离子体源专门用于低温工艺，例如塑料基板/薄膜。真空沉积膜的薄膜质量可以通过等离子辅助沉积来降低基板的温度升高来......
MIPC1000多功能等离子清洗仪 应用于各类分析设备样品清洗专门针对SEM/TEM等各类表面/微观分析设备开发，能够有效去除样品/样品杆表面污染物，防止碳沉积带来图像分辨率降低及对样品微区成分分析造成误判，同时可改善样品表面亲水性主要应用FIB/SEM/TEM/Nano ProbeXPS/GC/SIMSSynchrotron Radiation各类真空腔体......
扫描电镜等离子清洗机VP-R10采用低温真空石英腔体等离子清洗装置：CN201821507327.8，真空腔体石英玻璃材质，腔体容积10升，射频频率13.56MHz，功率160W，能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用，满功率运行30分钟，腔体温度不高于32℃，不损伤样品，整机工作真空＜10Pa，防止样品被氧化，适用于导电碳布、微流控芯片PDMS键合、IT......
产品特点：用于冷冻电子断层扫描的等离子体聚焦离子束薄片制备。产品详情：Arctis 冷冻等离子体聚焦离子束专为自动化冷冻电子断层扫描成像样品的制备而设计。用户可以稳定地在原位制备厚度约为 200nm 或更薄的冷冻薄片，同时避免产生镓 (Ga) 离子注入效应。与目前市场上的其他 cryo-FIB-SEM 系统相比，Arctis Cryo-PFIB 可显著提高样......
简介日立紫外清洗设备采用紫外光和臭氧对样品表面进行清洁，特别适用于有机污染物的去除，相较于等离子清洗更为温和，减少对样品的损伤。该设备提供两种清洗模式，并能在1分钟至24小时内灵活设置清洗时间，同时配备高效的无油真空系统和适配多种扫描电镜的样品仓，确保清洗效果与便捷操作。日立紫外清洗设备是利用紫外光和臭氧对样品表面污染物进行清理的前处理设备，主要针对样品表面......