半导体材料
做ICP-OES、ICP-MS、AFS、GFAAS/AAS 等实验室痕量、超痕量元素分析的，都知道试剂纯度的重要性。唯有解决了试剂纯度不够带来的高空白值，才能提升分析结果的可靠性。高纯金属、半导体等材料领域，更是对试剂纯度有着严苛要求。可是高纯试剂价格昂贵且不说，还不易运输和存放，更不要说采购程序是多么复杂。那么，何不买一台高品质、高效、高安全性的酸纯化仪？......
半导体材料（semiconductor material）是一类具有半导体性能（导电能力介于导体与绝缘体之间，电阻率约在1mΩ·cm～1GΩ·cm范围内）、可用来制作半导体器件和集成电路的电子材料。AstruM ES是一台双聚焦辉光放电质谱仪，一次扫描就可以测定从亚ppb到基体之间所有元素的含量。它被广泛地应用在高纯金属，半导体材料，航空航天材料的杂质检测。......
LIA001M配合丰富的模拟输入输出接口，集可视化锁相放大器、虚拟示波器、参数扫描仪、信号发生器、PID控制器等多种功能于一体，有效的简化科研工作流程和设备依赖，提高科研效率和质量，有内部参考、外部参考、双参考3种锁相解调模式，支持1/1023~1023次谐波检测功能，支持Sine和TTL参考信号输入和输出。产品参数信号输入（电压和电流）电压通道1(单端和差......
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在高分子材料行业领域中的Power Semiconductors项目。 半导体制造解决方案 紧密的设计，布局灵活实时清洗和终点监测特征牛津仪器的PlasmaPro 100系列具有200mm......
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra可以用在纳米材料行业领域，用来检测Optoelectronic Semiconductor，可完成Optoelectronic Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford Instruments。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semicon......
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Optoelectronic Semiconductor，符合行业标准Oxford Instruments。适用Optoelectronic Semiconductor项目。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconductor Device Manuf......
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE适用于Power Semiconductors项目，参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power Semiconductors等样品。可应用于纳米材料行业领域。 失效分析 我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaP......
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Power Semiconductors，符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors项目。 失效分析 准确的刻蚀深度控制；光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工最大200mm的晶圆高深宽比（HAR）刻蚀工艺......
徕卡材料/金相显微镜DM4 M参考多项行业标准。完成徕卡显微PCB行业应用解决方案的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的徕卡显微PCB行业应用解决方案项目。 PCB是电子工业的重要部件之一，小到日常用的手机，大到汽车，通讯设备，军用武器系统，PCB板都是必不可少的核心部件。PCB板在整机中起着元器件和芯片的支撑、层间互连和导通、防止焊接桥搭和......
电压击穿试验仪-微机控制DDJ-100KV满足标准：GB/T 1408-2006 绝缘材料电气强度试验方法 GB/T1695-2005 硫化橡胶工频电压击穿强度和耐电压强度试验 GB/T3333 电缆纸工频电压击......