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JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。产品特点：JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能......
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。 此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。 利用zei细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细......
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点：用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热......
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。产品特点：zei新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。◇......
品牌： GATAN 名称型号：Gatan SmartEMIC 电子束感应电流测量系统制造商： GATAN公司经销商：欧波同有限公司免费咨询电话：800-8900-558售后服务电话：800-8900-558 产品综合介绍： &nb......
电子束敏感材料（如金属有机骨架(MOFs)、分子筛、共价有机骨架(COFs)、杂化卤素钙钛矿等）极其诱人的性能取决于其独特的微观组织结构特征，在催化，能源等领域具有广阔的应用前景。产品综合介绍：产品功能介绍GATAN公司是扫描电镜低温技术的领导者，GATAN C1000 系列扫描电镜冷台主要应用于对各类样品的低温状态下的形貌状态研究。如电子束敏感材料，聚合物......
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间......
BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉以电子束为热源使用各种熔解用坩埚，对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。 适合研究开发及少量生产、省空间设计的小型熔炼炉。 可按照用途选择坩埚种类、材料供给系统和电子枪输出功率。产品特点：以电子束为热源使用各种熔解用坩埚，对高融点活性金属进行熔解/精炼、制备铸锭的电子束熔炼炉。适合研究开发及少量生产、省空间......
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)ELS-F125具有以下优点：l 超高书写精度- 5 nm 线宽精度 @ 125 kV- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应最小化 @ 125 kVl ......
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统｡产品特点：JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/......